[发明专利]光刻设备和方法

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

投影系统，配置为将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上，

其中所述投影系统包括

多个光学元件，配置成与所述图案化的辐射束光学地相互作用以将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上，

多个光学元件位置传感器，

传感器框架，所述光学元件位置传感器安装到所述传感器框架上，所述光学元件位置传感器配置成测量光学元件相对于所述传感器框架的位置，

力框架，

多个振动隔离器，连接在所述力框架和所述传感器框架之间，所述力框架配置成经由所述振动隔离器支撑所述传感器框架，所述振动隔离器配置成将所述传感器框架与所述力框架中的振动隔离，

多个传感器框架位置传感器，配置成测量所述传感器框架相对于所述力框架的位置，

多个加速度传感器，配置成测量所述传感器框架的加速度，以及

多个致动器，布置在所述传感器框架和力框架之间，并配置成在所述传感器框架和力框架之间施加力，并且

所述光刻设备还包括控制装置，所述控制装置包括：

加速度传感器输入件，所述加速度传感器连接至所述加速度传感器输入件以向所述控制装置提供表示所述传感器框架的加速度的加速度信号，

位置传感器输入件，所述传感器框架位置传感器连接至所述位置传感器输入件以向所述控制装置提供表示所述传感器框架相对于所述力框架的位置的位置信号，

致动器输出件，连接至所述致动器以使所述控制装置能够驱动所述致动器，其中所述控制装置配置成：

从所述加速度信号和所述位置信号中的至少一种信号导出传感器框架阻尼力信号，

从所述位置信号导出估计的视线误差，

根据所述传感器框架阻尼力信号和估计的所述视线误差确定致动器驱动信号，

使用所述致动器驱动信号驱动所述致动器以阻尼所述传感器框架并至少部分地补偿估计的所述视线误差。

2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中从所述位置信号导出估计的所述视线误差的步骤包括：

从所述位置信号导出估计的振动隔离器引起的传感器框架力，

从估计的所述振动隔离器引起的传感器框架力导出估计的所述视线误差。

3.根据权利要求1或2所述的光刻设备，

其中所述传感器框架阻尼力信号是N个自由度的传感器框架阻尼力信号，

其中估计的所述视线误差是M个自由度的估计的视线误差，

其中所述致动器驱动信号是N+M个致动器驱动信号，

其中多个所述致动器是N+M个致动器，并且

其中所述致动器驱动信号通过使用N+M乘N+M矩阵根据所述传感器框架阻尼力信号和估计的所述视线误差来确定。

4.根据权利要求3所述的光刻设备，其中N＝6且M＝2，并且其中估计的所述视线误差在限定大致平行于所述衬底的目标部分的平面的2个方向上。

5.根据权利要求3或4所述的光刻设备，其中所述控制装置还配置成：

通过使用N乘N传感器框架刚度矩阵(K_vis)从所述位置信号导出估计的所述振动隔离器引起的传感器框架力，所述N乘N传感器框架刚度矩阵表示作为N维位置信号的函数的N维传感器框架力。

6.根据权利要求3-5中任一项所述的光刻设备，其中所述控制装置还配置成：

通过使用M乘N传感器框架力至视线误差矩阵(Q)从估计的所述振动隔离器引起的传感器框架力导出估计的视线误差，所述M乘N传感器框架力至视线误差矩阵表示作为N维传感器框架力的函数的M维估计的视线误差。

7.根据权利要求2-6中任一项所述的光刻设备，其中所述控制装置还配置成：通过使用预先确定的传感器框架移位灵敏度函数，从所述位置信号估计所述振动隔离器引起的传感器框架力。

8.根据权利要求2-7中任一项所述的光刻设备，其中所述控制装置还配置成：通过使用视线灵敏度函数从估计的所述振动隔离器引起的传感器框架力导出估计的所述视线误差，所述视线灵敏度函数表示作为传感器框架力的函数的视线误差。