[发明专利]原盘、转印物以及原盘的制造方法

说明书

本发明提供形成有更为复杂的微细构造的原盘、使用该原盘的转印物以及该原盘的制造方法。一种原盘，其中，多个由多个凹部或凸部构成的凹凸集合体在基材上相互分离设置，所述凹部或凸部在所述基材表面上所占区域的平均宽度为可见光波段的波长以下，所述凹凸集合体内的各个所述凹部或凸部自所述基材表面的形成长度为中心值不同的至少两个以上组中的任何一个。

技术领域

本发明涉及原盘、转印物以及原盘的制造方法。

背景技术

近几年，作为微细加工技术之一的压印技术的开发正在发展。压印技术是指通过将表面上形成有微细凹凸构造的原盘按压于树脂薄片等而将原盘表面的凹凸构造转印到树脂薄片上的技术。

使用以下所示的微细加工技术可以形成压印技术所使用的原盘凹凸构造。

例如，在平板状的原盘上形成凹凸构造的情况下，如下述专利文献1所述，使用激光干涉曝光法能够在原盘的一主面上形成与激光的干涉图案相对应的凹凸构造。

此外，在圆柱状的原盘上生成凹凸构造的情况下，例如，使用激光光刻技术能够在圆柱状的原盘外周面上形成凹凸构造。具体而言，通过使圆柱状的基材围绕穿过底面和上表面中心的旋转轴旋转，然后使激光在基材的轴向上扫描并照射到基材的外周面上，能够在该外周面上连续形成凹凸构造。

专利文献

专利文献1：日本特开2007-57622号公报

发明内容

发明所要解决的课题

但上述的凹凸构造的形成方法仅能形成基于形成方法的特定凹凸构造，而难以形成任意的凹凸构造。尤其难以形成诸如进一步使多个由多个凹部或凸部构成的凹凸集合体排列的复杂凹凸构造。为此而需要能够自由地形成更为复杂的凹凸构造的图案形成方法以及利用该图案形成方法形成的原盘。

因此，本发明正是鉴于上述问题而作出的发明，本发明的目的在于提供形成有更为复杂的凹凸构造的原盘、使用该原盘的转印物以及该原盘的制造方法。

用于解决课题的方案

为了解决上述课题，本发明的一方面提供一种原盘，其中，多个由多个凹部或凸部构成的凹凸集合体在基材上相互分离设置，所述凹部或凸部在所述基材表面上所占区域的平均宽度为可见光波段的波长以下，所述凹凸集合体内的各个所述凹部或凸部自所述基材表面的形成长度为中心值不同的至少两个以上组中的任何一个。

所述凹凸集合体内的各个所述凹部或凸部在所述基材表面上所占区域的平均宽度可以为中心值不同的至少两个以上组中的任何一个。

所述凹部或凸部自所述基材表面的形成长度越长，所述凹部或凸部在所述基材表面上所占区域的平均宽度可以越大。

各个所述凹部或凸部在所述基材表面上所占区域的平面形状可以为大致圆形。

各个所述凹凸集合体所设置的间隔可以大于可见光波段的波长。

所述凹凸集合体内的各个所述凹部或凸部可以以最密充填配置设置。

各个所述凹部或凸部自所述基材表面的形成长度可以在所述凹凸集合体内阶段性地变化。

各个所述凹部或凸部自所述基材表面的形成长度可以在所述凹凸集合体内不规律地变化。

各个所述凹凸集合体可以规律地排列。

各个所述凹凸集合体可以不规律地排列。

此外，为了解决上述课题，本发明另一方面提供一种转印有设置在上述原盘上的多个所述凹凸集合体的凹凸构造的转印物。