[发明专利]图案形成方法、晶体管的制造方法和图案形成用部件

说明书

本发明提供一种图案形成方法，其是在对象物的被处理面上形成图案的图案形成方法，其包括下述工序：第1层形成工序，在上述被处理面上形成第1层，该第1层包含具有能够用酸分解、并且还能够用光分解的保护基团的化合物；第2层形成工序，在上述第1层上形成包含通过曝光而产生酸的光产酸剂的第2层；曝光工序，对上述第1层和上述第2层进行曝光，在上述第1层上形成由曝光区域和未曝光区域构成的潜像；以及配置工序，将图案形成材料配置在上述曝光区域或上述未曝光区域。

技术领域

本发明涉及图案形成方法、晶体管的制造方法和图案形成用部件。

本申请基于2017年12月13日在日本提交的日本特愿2017-238552号要求优先权，将其内容援引于此。

背景技术

近年来，在半导体元件、集成电路、有机EL显示器用器件等微细器件等的制造中，提出了下述方法：在基板上形成表面特性不同的图案，利用该表面特性的差异来制作微细器件。

作为利用基板上的表面特性的差异的图案形成方法，例如有在基板上形成亲水区域和疏水区域并将功能性材料的水溶液涂布至亲水区域的方法。该方法中，功能性材料的水溶液仅在亲水区域润湿铺展，因而能够形成功能性材料的薄膜图案。

作为能够在基板上形成亲水区域和疏水区域的材料，近年来使用了偶联剂。专利文献1中记载了一种在光照射前后能够使接触角发生显著变化的光分解性偶联剂。这样的光分解性偶联剂优选对光的灵敏度优异。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2008-50321号公报

发明内容

本发明的第1方式涉及一种图案形成方法，其是在对象物的被处理面上形成图案的图案形成方法，其包括下述工序：第1层形成工序，在上述被处理面上形成第1层，该第1层包含具有能够用酸分解、并且还能够用光分解的保护基团的化合物；第2层形成工序，在上述第1层上形成包含通过曝光而产生酸的光产酸剂的第2层；曝光工序，隔着上述第2层对上述第1层进行曝光，在上述第1层形成由曝光区域和未曝光区域构成的潜像；以及配置工序，将图案形成材料配置在上述曝光区域或上述未曝光区域。

本发明的第2方式涉及一种晶体管的制造方法，其包括利用第1方式的图案形成方法形成栅电极、源电极、漏电极中的至少1种电极的工序。

本发明的第3方式涉及一种图案形成方法，其是在对象物的被处理面上形成图案的图案形成方法，其包括下述工序：第1层形成工序，在上述被处理面上形成第1层，该第1层包含具有能够用酸分解、并且还能够用光分解的保护基团的化合物；第2层形成工序，在上述第1层上形成包含通过曝光而产生酸的光产酸剂的第2层；曝光工序，对上述第1层和上述第2层进行曝光，在上述第1层上形成由曝光区域和未曝光区域构成的潜像；以及化学镀覆工序，将化学镀覆用催化剂配置在上述曝光区域或未曝光区域，进行化学镀覆。

本发明的第4方式涉及一种晶体管的制造方法，其包括利用第3方式的图案形成方法形成栅电极、源电极、漏电极中的至少1种电极的工序。

本发明的第5方式涉及一种图案形成用部件，其具有规定的基板、设置在上述基板上的第1层、以及设置在上述第1层上的第2层，上述第1层包含具有能够用酸分解、并且还能够用光分解的保护基团的化合物，上述第2层包含通过曝光而产生酸的光产酸剂。

附图说明

图1是示出本实施方式的图案形成方法中优选的基板处理装置的整体构成的示意图。

图2是示出图案形成方法的示意性工序的图。

图3是示出晶体管的制造方法的示意性工序的一例的图。

具体实施方式

图案形成方法