[发明专利]介质涂覆设备有效
申请号: | 201880079078.3 | 申请日: | 2018-11-29 |
公开(公告)号: | CN111432942B | 公开(公告)日: | 2023-03-10 |
发明(设计)人: | S·阿曼;R·舒勒;B·埃尔克特;G·西贝尔;A·克勒曼;I·塞尔;J·德普纳;J·普伦;S·伯宁;S·霍斯特曼 | 申请(专利权)人: | 罗伯特·博世有限公司 |
主分类号: | B05B12/12 | 分类号: | B05B12/12;B05B12/00;B05B17/06;G01B11/14 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 侯鸣慧 |
地址: | 德国斯*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 介质 设备 | ||
1.一种涂覆系统,该涂覆系统具有至少一个介质涂覆设备和至少一个控制和/或调节单元(22a;22c;22d),该介质涂覆设备具有用于将至少一个介质输出到至少一个表面(14a;14c;14d)上的至少一个介质输出单元(12a;12c;12d;12e)和至少用于控制和/或调节所述至少一个介质输出单元(12a;12c;12d;12e)的至少一个电子部件单元(16a;16c;16d;16e),其特征在于,所述控制和/或调节单元(22a;22c;22d)具有至少一个感测设备(24a;24c;24d),该感测设备设置成用于,根据所述介质涂覆设备的环境的至少一个参照元件(26a;26c、28a;28c、30a;30c、32a;32c)和/或根据所述介质涂覆设备的至少一个参照元件(34a;34c;34d;34e)感测所述介质涂覆设备相对于所述表面(14a;14c;14d)的至少一个位置和/或定向,其中,所述介质涂覆设备的所述参照元件(34a;34c;34d;34e)构造为发射辐射的照明元件,该照明元件设置成用于脉冲式地发射辐射,其中,通过所述照明元件的脉冲运行可以调制通过照明元件发射的辐射,用于从所述介质涂覆设备至所述控制和/或调节单元(22a;22c;22d)的信息传递,并且所述照明元件可以用作为基于光的通信单元,用于将电子数据通过调制光传递。
2.根据权利要求1所述的涂覆系统,其特征在于,所述介质涂覆设备的所述参照元件(34a;34c;34d;34e)构造为发射辐射的照明元件,该照明元件设置成用于发射蓝色频谱范围中的和/或对于人眼至少基本上不可见的频谱范围中的电磁辐射。
3.根据权利要求1或2所述的涂覆系统,其特征在于,所述介质涂覆设备的所述参照元件(34a)构造为无辐射的编码元件。
4.根据权利要求1或2所述的涂覆系统,其特征在于,所述介质涂覆设备具有至少一个参照元件产生单元(42a),该参照元件产生单元设置成用于,产生所述介质涂覆设备的所述环境的所述参照元件(26a、28a)。
5.根据权利要求1或2所述的涂覆系统,其特征在于,所述介质输出单元(12a;12c;12d;12e)具有带着至少一个喷嘴元件(46a;46c;46d;46e)的至少一个喷嘴单元(44a;44c;44d;44e),该喷嘴元件与所述介质涂覆设备的所述参照元件(34a;34c;34d;34e)在同一排中布置,其中,所述介质涂覆设备的所述喷嘴元件(46a;46c;46d;46e)和所述参照元件(34a;34c;34d;34e)沿着单个假想的直线布置,所述直线在所述喷嘴元件(46a;46c;46d;46e)的介质输出方向(102a)相对于所述表面(14a;14c;14d)至少基本上垂直的情况下至少基本上垂直于所述表面(14a;14c;14d)地走向。
6.根据权利要求1或2所述的涂覆系统,其特征在于,所述感测设备(24a)至少为了所述介质涂覆设备相对于所述表面(14a)的位置和/或定向感测而具有至少一个摄像机单元(48a),该摄像机单元具有在图像分辨率为至少518.400像点时一秒至少120个图像的图像拍摄频率。
7.根据权利要求1或2所述的涂覆系统,其特征在于,所述介质涂覆设备和所述控制和/或调节单元(22a;22d)分别具有至少一个通信单元(58a;58d、60a;60d)以用于彼此和/或与至少一个另外的外部单元加密地交换电子数据,其中,所述通信单元(58a;58d、60a;60d)设置成用于以小于30ms的延迟时间进行数据传递。
8.根据权利要求1或2所述的涂覆系统,其特征在于,所述感测设备(24a)设置成用于感测所述介质涂覆设备相对于所述表面(14a)的位置和/或定向以用于借助于节拍同步和/或开始时间触发与所述介质涂覆设备同步。
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