[发明专利]提高具有多个厚度的玻璃制品上的IOX加工性的方法

权利要求书

1.一种制造玻璃基制品的方法，所述方法包括：

减小包含压缩应力层且具有第一厚度t₁的玻璃基制品的一部分的厚度，所述压缩应力层从表面延伸到压缩深度，以形成包含具有第二厚度t₂的区域的玻璃基制品；

将包含具有第二厚度t₂的区域的玻璃基制品暴露于包含碱金属离子的浴，以对包含具有第二厚度t₂的区域的玻璃基制品进行离子交换，从而形成具有第一厚度t₁的区域的第一应力分布和具有第二厚度t₂的区域的第二应力分布，其中所述第一应力分布包括具有第一最大中心张力(CT₁)的第一中心张力区域，所述第二应力分布包括具有第二最大中心张力(CT₂)的第二中心张力区域，其中CT₂小于CT₁，

其中t₂小于t₁。

2.如权利要求1所述的方法，所述方法还包括将玻璃基基材暴露于包含碱金属离子的浴，以对该玻璃基基材进行离子交换，形成包含从表面延伸到压缩深度的压缩应力层的玻璃基制品。

3.如权利要求2所述的方法，其中，将玻璃基基材暴露于包含碱金属离子的第一浴并持续第一持续时间，随后暴露于包含碱金属离子的第二浴并持续第二持续时间。

4.如权利要求2所述的方法，其中，玻璃基基材是含锂的铝硅酸盐，并且所述浴包含钾和钠的离子。

5.如权利要求1-4中任一项所述的方法，其中，包含从表面延伸到压缩深度的压缩应力层的玻璃基制品是层压体，所述层压体包括具有不同热膨胀系数的多个层，并且所述玻璃基制品已经进行了热处理以产生压缩应力层。

6.如权利要求1-5中任一项所述的方法，其中，减小厚度包括机械加工和抛光中的至少一者。

7.如权利要求1-6中任一项所述的方法，其中，减小厚度包括酸蚀刻。

8.如权利要求1-7中任一项所述的方法，其中，具有第一厚度t₁的区域包括第一压缩应力(CS₁)，具有第二厚度t₂的区域包括第二压缩应力(CS₂)，其中CS₂小于CS₁。

9.如权利要求1-8中任一项所述的方法，其中，具有第一厚度t₁的区域包括第一压缩深度(DOC₁)，具有第二厚度t₂的区域包括第二压缩深度(DOC₂)，其中DOC₂小于DOC₁。

10.如权利要求1-9中任一项所述的方法，其中，玻璃基制品包含钠钙硅酸盐、碱金属铝硅酸盐、含碱金属的硼硅酸盐、含碱金属的铝硼硅酸盐或含碱金属的磷硅酸盐。

11.如权利要求1-10中任一项所述的方法，其中，玻璃基制品包含含锂的铝硅酸盐。

12.如权利要求1-11中任一项所述的方法，其中，具有第二厚度t₂的区域偏离玻璃基制品的所有边缘。

13.如权利要求1-12中任一项所述的方法，其中，t₂比t₁小至少100微米。

14.如权利要求1-13中任一项所述的方法，所述方法还包括一种或多种选自下组的金属：银、铜、锌、钛、铷和铯。