[发明专利]衬底保持器和制造器件的方法

说明书

公开了衬底保持器、制造这种衬底保持器的方法和包括这种衬底保持器的光刻设备。在一种布置中，提供有一种用于在光刻设备中使用的衬底保持器。所述衬底保持器被配置成支撑衬底的下表面。所述衬底保持器(WT)包括主体(40)、多个突节和涂层(23)。主体具有面向衬底的面(41)。多个突节从面向衬底的面突出。每个突节具有被配置成与衬底接合的远端。所述远端被配置用于支撑所述衬底。所述涂层在面向衬底的面上、位于突节之间。在突节之间，面向衬底的面包括多个区域(42，43)的布置。相邻区域通过在支撑平面下方的距离的台阶式变化而被分开。每个台阶式变化大于涂层的厚度。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2017年11月8日提交的欧洲申请17200605.8的优先权，所述申请的全部内容通过引用并入本文中。

技术领域

本发明涉及衬底保持器、光刻设备、器件制造方法和制造衬底保持器的方法。

背景技术

光刻设备是一种将期望的图案施加到衬底(通常是在衬底的目标部分上)上的机器。例如，光刻设备可以用于集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可替代地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于产生要在IC的单层上形成的电路图案。可以将所述图案转移到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括一部分管芯、一个或若干管芯)上。典型地，通过将图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行图案的转移。通常，单个衬底将包含被连续图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进器和所谓的扫描器，在步进器中，通过将整个图案一次曝光到目标部分上来辐照每个目标部分；在扫描器中，通过在辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描图案的同时沿与所述方向平行或反向平行的方向同步地扫描衬底来辐照每个目标部分。还可以通过将图案压印到衬底上而将图案从图案形成装置转移到衬底。

当从图案形成装置转移图案时衬底被夹持到光刻设备中的衬底保持器上。衬底保持器常规地具有用于支撑衬底的多个突节。与衬底的总面积相比，突节接触衬底的总面积较小。因此，在突节与衬底之间捕获随机地位于衬底或衬底保持器的表面上的污染物粒子的可能性较小。

可以在衬底保持器上设置层或涂层。仅仅作为示例，可以在衬底保持器上设置类金刚石(DLC)层或涂层。这样的涂层可能引起衬底保持器变形。这可能是由于涂层内的内应力。衬底保持器的变形可能产生问题，诸如降低聚焦的准确度。

发明内容

例如，期望提供能够减小聚焦误差的改善的衬底保持器。

根据本发明的一方面，提供一种用于光刻设备的衬底保持器，所述被配置成支撑衬底的下表面，其中所述衬底保持器包括：

主体，所述主体具有面向衬底的面；

多个突节，所述多个突节从所述面向衬底的面突出，每个突节具有被配置成与所述衬底接合的远端，所述远端与一支撑平面大致一致并被配置用于支撑所述衬底；和

涂层，所述涂层在所述面向衬底的面上、位于所述突节之间，所述涂层具有一厚度；

其中在所述突节之间，所述面向衬底的面包括多个区域的布置，其中相邻区域通过在所述支撑平面下方的距离的台阶式变化被分开，其中每个台阶式变化大于所述涂层的厚度。

根据本发明的一方面，提供一种用于光刻设备的衬底保持器，所述衬底保持器被配置成支撑衬底的下表面，其中所述衬底保持器包括：

主体，所述主体具有面向衬底的面；

多个突节，所述多个突节从所述面向衬底的面突出，每个突节具有被配置成与所述衬底接合的远端，所述远端与一支撑平面大致一致并被配置用于支撑所述衬底；和

涂层，所述涂层在所述面向衬底的面上、位于所述突节之间；