[发明专利]衬底保持器和制造器件的方法有效

专利信息
申请号: 201880072539.4 申请日: 2018-10-11
公开(公告)号: CN111373327B 公开(公告)日: 2022-07-22
发明(设计)人: T·波耶兹;S·阿成达;J·布坎贝格蒂;A·A·索图特 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/683;H01L21/687
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 胡良均
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 衬底 保持 制造 器件 方法
【权利要求书】:

1.一种用于光刻设备的衬底保持器,所述衬底保持器被配置成支撑衬底的下表面,其中所述衬底保持器包括:

主体,所述主体具有面向衬底的面;

多个突节,所述多个突节从所述面向衬底的面突出,每个突节具有被配置成与所述衬底接合的远端,所述远端与一支撑平面大致一致并被配置用于支撑所述衬底;和

涂层,所述涂层在所述面向衬底的面上、位于所述突节之间,所述涂层具有一厚度;

其中在所述突节之间,所述面向衬底的面包括多个区域的布置,其中相邻区域通过在所述支撑平面下方的距离的台阶式变化被分开,其中每个台阶式变化大于所述涂层的厚度,且其中所述相邻区域中的更接近所述支撑平面的第一区域不与位于所述相邻区域中的第二区域上的涂层重叠,所述第二区域比所述第一区域离所述支撑平面更远。

2.根据权利要求1所述的衬底保持器,其中相邻区域通过侧壁连接,并且所述侧壁上的任何涂层都不足以在相邻区域之间传递应力。

3.根据权利要求1或2所述的衬底保持器,其中所述涂层具有残余应力。

4.根据权利要求1或2所述的衬底保持器,其中所述涂层在相邻区域之间是不连续的。

5.根据权利要求1或2所述的衬底保持器,其中每个台阶式变化为至少1μm。

6.根据权利要求1或2所述的衬底保持器,其中所述区域的横向尺寸小于所述突节的横向尺寸。

7.根据权利要求1或2所述的衬底保持器,其中每个台阶式变化小于所述主体的面向衬底的面与所述支撑平面之间的最小距离。

8.根据权利要求1或2所述的衬底保持器,其中每个区域的横向尺寸大于将所述区域与相邻区域分开的台阶式变化。

9.根据权利要求1或2所述的衬底保持器,其中相邻区域通过大致垂直于所述支撑平面延伸的侧壁被连接。

10.根据权利要求1或2所述的衬底保持器,其中每个区域被布置成处于所述支撑平面下方的仅有的两个不同距离中的一个距离处。

11.根据权利要求1或2所述的衬底保持器,其中所述多个区域的布置是栅格。

12.一种用于光刻设备的衬底保持器,所述衬底保持器被配置成支撑衬底的下表面,其中所述衬底保持器包括:

主体,所述主体具有面向衬底的面;

多个突节,所述多个突节从所述面向衬底的面突出,每个突节具有被配置成与所述衬底接合的远端,所述远端与一支撑平面大致一致并被配置用于支撑所述衬底;和

涂层,所述涂层在所述面向衬底的面上、位于所述突节之间;

其中在所述突节之间,所述面向衬底的面包括多个区域的布置,其中相邻区域通过在所述支撑平面下方的距离的台阶式变化而被分开,其中相邻区域通过侧壁连接,并且所述侧壁上的任何涂层不足以在相邻区域之间传递应力,且其中所述相邻区域中的更接近所述支撑平面的第一区域不与位于所述相邻区域中的第二区域上的涂层重叠,所述第二区域比所述第一区域离所述支撑平面更远。

13.根据权利要求12所述的衬底保持器,其中所述涂层具有残余应力。

14.根据权利要求12所述的衬底保持器,其中所述涂层在相邻区域之间是不连续的。

15.根据权利要求12所述的衬底保持器,其中每个台阶式变化为至少1μm。

16.根据权利要求12所述的衬底保持器,其中所述区域的横向尺寸小于所述突节的横向尺寸。

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