[发明专利]清洁极紫外光源的腔室内的光学器件的表面

权利要求书

1.一种清洁极紫外(EUV)光源的腔室内的光学器件的表面的方法，所述腔室被保持在大气压以下的压力处，所述方法包括：

在邻近所述光学器件表面并且在所述腔室内的位置处生成处于等离子态的材料，所述生成包括将已经存在于真空的所述腔室内并且邻近所述光学器件表面的天然材料从第一状态转变成所述等离子态；

其中所述材料的所述等离子态包括所述材料的自由基；

其中生成处于所述等离子态的所述材料包括使得处于所述等离子态的所述材料能够经过所述光学器件表面，以在不从所述EUV光源移除所述光学器件的情况下从所述光学器件表面移除碎屑，

其中生成处于所述等离子态的所述材料包括在所述腔室内邻近所述光学器件表面的所述位置处电磁感应电流。

2.根据权利要求1所述的方法，其中在所述腔室内邻近所述光学器件表面的所述位置处电磁感应所述电流包括在所述腔室内在所述光学器件附近产生时间变化的磁场。

3.根据权利要求2所述的方法，其中在所述腔室内产生所述时间变化的磁场包括使时间变化的电流流过被放置在所述光学器件表面的周界外部的电导体。

4.根据权利要求1所述的方法，其中使得处于所述等离子态的所述材料能够经过所述光学器件表面以从所述光学器件表面移除碎屑在不存在氧气的情况下被完成。

5.根据权利要求1所述的方法，其中处于所述等离子态的所述材料至少包括离子、电子、以及氢的自由基。

6.根据权利要求1所述的方法，其中从所述光学器件表面移除碎屑包括使所述材料的自由基与所述光学器件表面上的所述碎屑起化学反应，以形成从所述光学器件表面释放的化学物。

7.根据权利要求6所述的方法，还包括从所述腔室移除所释放的所述化学物。

8.根据权利要求6所述的方法，其中所述自由基是氢的自由基，并且所述光学器件表面上的所述碎屑包括锡，使得从所述光学器件表面释放的所述化学物包括氢化锡。

9.根据权利要求1所述的方法，其中从所述光学器件表面移除碎屑包括在整个光学器件表面上以至少每分钟1纳米的速率从所述光学器件表面蚀刻所述碎屑。

10.一种系统，包括：

极紫外(EUV)光源，包括：

EUV腔室，被保持在大气压以下的压力处；

目标递送系统，所述目标递送系统将目标朝向真空的所述腔室中的相互作用区引导，所述相互作用区接收放大的光束，并且所述目标包括当被转变成等离子时发射极紫外光的物质；以及

光学收集器，所述光学收集器包括与所发射的所述极紫外光中的至少一些极紫外光相互作用的表面；以及

清洁装置，邻近所述光学收集器表面并且被配置为在不从所述EUV腔室移除所述收集器的情况下从所述光学收集器表面移除碎屑，所述清洁装置包括邻近所述光学收集器表面并且在所述EUV腔室内的等离子发生器，其中所述等离子发生器从已经存在于所述EUV腔室内并且邻近所述光学收集器表面的、处于第一状态的天然材料来生成在邻近所述光学收集器表面的位置处的处于等离子态的等离子材料，所述等离子材料包括与所述光学收集器表面上的所述碎屑起化学反应的自由基，

其中生成处于所述等离子态的所述材料包括在所述腔室内邻近所述光学收集器表面的所述位置处电磁感应电流。

11.根据权利要求10所述的系统，其中所述光学收集器的所述表面是反射表面，并且所述光学收集器表面与所发射的所述极紫外光之间的所述相互作用包括来自所述光学收集器表面的所发射的所述极紫外光的反射。