[发明专利]在具有非平坦表面的支撑件上制造膜的方法

说明书

本发明涉及一种在具有非平坦表面的支撑件(20)上制造膜(12)的方法，其特征在于，该方法包括：‑供应具有非平坦表面的供体衬底(10)，‑在供体衬底(10)中形成脆化区(11)以界定待转移的所述膜(12)，‑在待转移的膜(12)的非平坦表面上通过沉积形成支撑件(20)，‑使供体衬底(10)沿着脆化区(11)分离，以将所述膜(12)转移到支撑件(20)上。

技术领域

本发明涉及一种在具有非平坦表面的支撑件上制造膜的方法。

背景技术

当膜与支撑件具有不平坦的界面(交互表面)，也就是说支撑件的所述表面包括至少一个曲率和/或凹陷或浮雕图案时，在该支撑件上生产所述膜，特别是单晶体不是容易的事。

这种特别的拓扑结构不适合于结合和层压方法，通常的趋势是走向包括通过沉积在所述支撑件上形成膜的技术。

然而，除了膜相对于支撑件的良好机械强度之外，还有必要确保膜的足够良好的结晶质量。然而，膜的结晶质量很大程度上取决于进行沉积的支撑件，特别是其表面。当考虑通过外延形成的单晶膜时更是如此。在这种情况下，因为需要具有适合于希望沉积的膜的适当晶体结构和晶格参数，支撑件的本质特别关键。能够起到支撑作用的候选列表变得非常有限，以至于在某些规范情况下无法找到解决方案。

发明内容

因此，本发明的一个目的是构思一种在具有非平坦表面的支撑件上制造膜的方法，同时确保膜的良好结晶质量和关于支撑件的性质的相当广泛的选择二者。

为此，本发明提出了一种在具有非平坦表面的支撑件上制造膜的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

-供应具有非平坦表面的供体衬底，

-在供体衬底中形成脆化区，以界定待转移的所述膜，

-通过沉积在待转移的膜的非平坦表面上形成支撑件，

-使供体衬底沿着脆化区分离，以将所述膜转移到支撑件上。

根据一个实施方式，所述方法还包括：在沉积支撑件之前，在非平坦表面上沉积中间层。

脆化区的形成有利地通过在供体衬底中注入离子物质来执行。

所述注入的离子物质可以是氢和/或氦。

根据一个实施方式，通过热处理来导致供体衬底的分离。

在这种情况下，支撑件的沉积有利地以低于分离热处理的热预算来实现。

转移的膜可由选自半导体材料、压电材料、磁性材料和功能氧化物的材料制成。

以特别有利的方式，转移的膜是单晶的。

转移的膜的厚度通常介于100nm和10μm之间，优选介于100nm和1μm之间。

支撑件可由选自金属、玻璃和陶瓷的材料制成。

支撑件通常具有介于1μm和50μm之间的厚度。

优选地，支撑件的材料被选择为相对于转移的膜的材料的热系数差的绝对值小于5×10^-6K^-1。

支撑件的沉积可通过以下技术之一来实现：物理气相沉积、化学气相沉积、电化学沉积、旋涂、涂漆和喷涂。

根据本发明的一个实施方式，待转移的膜的表面具有至少一个弯曲部分。

根据本发明的一个实施方式，待转移的膜的表面具有至少一个凹陷或浮雕图案。

根据本发明的一个实施方式，待转移的膜的表面具有由大于1nm rms的粗糙度表征的纹理。