[发明专利]曝光装置和物品制造方法

说明书

一种曝光装置，包括：投影光学系统，该投影光学系统将曝光光投影到基板上以在基板上形成图案；遮光构件，包括允许由基板反射的光通过的开口；以及光接收元件，接收在由基板反射之后通过开口的光束，其中，根据由光接收元件接收到的光量来执行改变散焦量的聚焦控制。

技术领域

本发明涉及曝光装置及使用该曝光装置的物品制造方法。

背景技术

曝光装置是已知的，通过该曝光装置，原件(掩模)上的图案通过投影光学系统被转印到感光基板上。近年来，通过这种曝光装置曝光的基板已经变得较大，并且因而，其上具有图案的掩模已经变得较大。随着掩模变得较大，掩模本身的成本和制造掩模所需的时间都增大。这导致制造掩模的较高成本。

作为对此的解决方案，所谓的无掩模曝光装置引起关注，该无掩膜曝光装置能够在不使用其上具有图案的掩模的情况下在基板上形成图案。无掩模曝光装置是使用诸如数字微镜器件(DMD)之类的光学调制器的数字曝光装置。在无掩模曝光装置中，DMD生成与曝光图案对应的曝光光、在基板上曝光与曝光图案对应的图案数据，并且因此在不使用掩模的情况下在基板上形成图案。

专利文献1公开了一种无掩模曝光装置，在该无掩模曝光装置中从激光发射部发射的激光束进入光学调制器的每个调制元件，并且每个调制元件将激光束调制为要么曝光状态要么非曝光状态以执行基于图像数据的图像曝光。

[引文列表]

[专利文献]

PTL 1：日本专利申请公开No.2004-62155

PTL 2：日本专利申请公开No.2011-2512

发明内容

[技术问题]

在无掩模曝光装置中，点光在基板上的强度分布对图案分辨率性能具有重大影响。如果点光的会聚位置在与基板垂直的方向上偏离，那么作为结果的点光在基板上的强度分布的变化可能导致图案分辨率性能的退化。通过改变散焦的聚焦控制提高了图案分辨率性能，该散焦表示点光的会聚位置与基板面之间的位置偏差。

专利文献2公开了使用用于检测散焦的图像处理传感器的聚焦控制方法。图像处理传感器部署在保持基板的保持构件上。在聚焦控制中，由光学调制器反射并透射通过投影光学系统的光被成像在图像处理传感器上，并且调节由光学调制器反射的光束的角度以使得增大形成在图像处理传感器上的光学图像的对比度。

利用专利文献2中公开的聚焦控制方法，可以对相对于基板的保持面的散焦执行聚焦控制。但是，难以对相对于实际发生图案形成的基板的散焦执行聚焦控制。因此，利用专利文献2中公开的聚焦控制方法，可能难以充分地提高聚焦精确度。而且，由于执行基于光学图像的对比度的聚焦控制花费相对长的时间，因此难以实现高速聚焦控制。

本发明的一个目的是提供能够以高速和高精确度在基板上执行聚焦控制的曝光装置。

[问题的解决方法]

根据本发明的曝光装置包括：投影光学系统，被配置成将用于在基板上形成图案的曝光光投影到基板上；遮光构件，具有用于允许由基板反射的光通过的开口；以及光接收元件，被配置成接收在由基板反射之后通过开口的光束；

其中，根据由光接收元件接收到的光量，执行用于改变表示曝光光的会聚位置与基板之间的位置偏差的散焦量的聚焦控制。

[发明的有益效果]

本发明提供了能够以高速和高精确度在基板上执行聚焦控制的曝光装置。

附图说明

图1是示出根据第一实施例的光学系统的配置的图。

图2是示出根据第二实施例的光学系统的配置的图。