[发明专利]曝光装置和物品制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，包括：

投影光学系统，被配置成将用于在基板上形成图案的曝光光投影到基板上；

遮光构件，具有用于允许由基板反射的光通过的开口；以及

光接收元件，被配置成接收在由基板反射之后通过开口的光束，

其中，根据由光接收元件接收到的光量，执行用于改变表示曝光光的会聚位置与基板之间的位置偏差的散焦量的聚焦控制。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，遮光构件在散焦量小于预定量的对焦状态下被部署在与基板光学共轭的平面上。

3.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其中，控制单元在投影光学系统的光轴的方向上移动遮光构件。

4.根据权利要求3所述的曝光装置，其中，控制单元移动遮光构件以使得增大由光接收元件接收到的光量。

5.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，控制单元在投影光学系统的光轴的方向上移动光学构件，所述光学构件部署在投影光学系统的光路中。

6.根据权利要求5所述的曝光装置，其中，控制单元移动光学构件以使得增大由光接收元件接收到的光量。

7.根据权利要求1所述的曝光装置，还包括反射构件，所述反射构件被配置成反射由基板反射的光，

其中，遮光构件部署在由反射构件反射的光的光路中。

8.根据权利要求7所述的曝光装置，其中，遮光构件在散焦量小于预定量的对焦状态下被部署为与和基板光学共轭的平面偏离。

9.根据权利要求1至8中的任一项所述的曝光装置，其中，遮光构件由金属制成。

10.根据权利要求1至9中的任一项所述的曝光装置，还包括：

光学调制单元，包括多个光学调制元件；以及

照明光学系统，被配置成用光照射光学调制单元，

其中，由光学调制单元反射的光进入投影光学系统。

11.根据权利要求10所述的曝光装置，其中，在聚焦控制下，执行将点光通过投射光学系统投影到基板上的曝光操作，所述点光由照明光学系统形成；以及

针对基板上的特定区域重复曝光操作。

12.一种曝光装置，包括投影光学系统，所述投影光学系统被配置成将用于在基板上形成图案的曝光光投影到基板上，所述曝光装置包括：

第一遮光构件，具有用于允许由基板反射的光通过的开口；

第一光接收元件，被配置成接收在由基板反射之后通过第一遮光构件中的开口的光束；

第二遮光构件，具有用于允许由基板反射的光通过的开口；以及

第二光接收元件，被配置成接收在由基板反射之后通过第二遮光构件中的开口的光束，

其中，第一遮光构件在表示曝光光的会聚位置与基板之间的位置偏差的散焦量小于预定量的对焦状态下被部署为与和基板光学共轭的平面偏离，所述第一遮光构件部署在所述平面的与第一光接收元件相邻的一侧；以及

第二遮光构件在对焦状态下被部署为与和基板光学共轭的平面偏离，所述第二遮光构件部署在所述平面的与第二光接收元件相对的一侧。

13.根据权利要求12所述的曝光装置，其中，根据由第一光接收元件和第二光接收元件接收到的光量来执行用于改变散焦量的聚焦控制。