[发明专利]微细图案的制造方法以及使用了其的显示器件的制造方法在审
申请号: | 201880068098.0 | 申请日: | 2018-10-17 |
公开(公告)号: | CN111247624A | 公开(公告)日: | 2020-06-05 |
发明(设计)人: | 池田宏和;野中敏章;远山宜亮;铃木孝秀 | 申请(专利权)人: | 默克专利有限公司 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;G03F7/40 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人: | 刘卓然 |
地址: | 德国达*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 微细 图案 制造 方法 以及 使用 显示 器件 | ||
1.一种微细图案的制造方法,其包含以下的工序:
(1)在基板上,涂布包含碱溶解速度为的酚醛清漆树脂的抗蚀组合物,形成抗蚀组合物层的工序,
(2)将所述抗蚀组合物层进行曝光的工序,
(3)将所述抗蚀组合物层进行显影,形成抗蚀图案的工序,
(4)将所述抗蚀图案进行整面曝光的工序,
(5)在所述抗蚀图案的表面涂布微细图案形成组合物,形成微细图案形成组合物层的工序,
(6)将所述抗蚀图案以及微细图案形成组合物层进行加热,将所述微细图案形成组合物层的所述抗蚀图案附近区域进行固化而形成不溶化层的工序,以及
(7)将所述微细图案形成组合物层的未固化部分去除的工序。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,使用极限分辨率为1.5~5.0μm的曝光装置进行所述工序(2)中的曝光。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其中,使用数值孔径为0.08~0.15的投影透镜进行所述工序(2)中的曝光。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的方法,其中,所述工序(2)中的曝光量为15~80mJ/cm2。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的方法,其中,在所述工序(2)中照射的光包含300~450nm的波长的光。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的方法,其中,所述酚醛清漆树脂的质均分子量为1,500~25,000。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的方法,其进一步包含将所述抗蚀图案进行加热的工序(3-1)。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的方法,其中,所述微细图案形成组合物包含交联剂、聚合物与溶剂。
9.根据权利要求1~8中任一项所述的方法,其中,所述微细图案形成组合物利用细管粘度计在25℃测定得到的粘度为1~120cP。
10.根据权利要求1~9中任一项所述的方法,其中,所述微细图案的收缩量为0.05~1.00μm。
11.根据权利要求1~10中任一项所述的方法,其中,所述工序(6)中的加热在50~140℃进行。
12.根据权利要求1~11中任一项所述的方法,其中,在所述工序(7)中,通过使水、水溶性有机溶剂与水的混合液、或者碱水溶液接触于所述微细图案形成组合物层,从而将所述未固化部分去除。
13.根据权利要求1~12中任一项所述的方法,其中,所述抗蚀图案的截面形状为锥形形状。
14.一种显示器件的制造方法,其包含权利要求1~13中任一项所述的方法。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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