[发明专利]用于制造光学装置的方法

说明书

本申请涉及用于制造光学装置的方法和光学装置。本申请提供了能够使在通过点涂过程制造光学装置时可能出现的点涂不均匀性最小化或消除的制造方法。特别地，即使当存在大的单元间隙或者应用聚合物基底作为基底使得无法进行高温热处理时，本申请的这样的方法也可以通过改善点涂不均匀性来提供具有改善的取向的配向膜。

交叉引用相关申请

本申请要求基于2017年9月29日提交的韩国专利申请第10-2017-0127825号的优先权的权益，其公开内容通过引用整体并入本文。

技术领域

本申请涉及用于制造光学装置的方法和光学装置。

背景技术

已知能够通过在基底之间设置光调制层来调节透光率或颜色等的光学装置。例如，在专利文献1中，已知其中施加有液晶主体和二色性染料客体的混合物的所谓的GH单元(宾主单元)。

用于制造光学装置的方法是公知的。其中一种方法是这样的方法：将光调制材料点涂在具有形成在其表面上的配向膜的基底上并将相对的基底压制到点涂的光调制材料上，使得光调制材料在基底之间的间隙中散布并同时填充间隙(也称为VALC(vacuumassembly LC，真空组合件LC)或ODF(one drop filling，一滴填充))(在下文中，可以称为点涂过程(dotting process))。

图1是示意性地示出这样的点涂过程的进程的图。如图1所示，点涂过程可以通过以下来进行：将光调制材料301点涂在基底201A上的合适位置上，然后用辊等压制另一个基底201B，并使其结合在一起使得点涂的光调制材料在基底之间均匀散布。然而，图1所示的过程是点涂过程的实例，其中可以基于图1所示的方法对实际的点涂过程进行各种改变。

这样的方法可以减少液晶消耗，原因是与其他方法相比，可以精确地仅使用必要量的液晶，并且即使在面积增大等的情况下，也可以通过减少TAT(turnaround time，周转时间)来大大改善生产率。然而，上述方法由于点涂有光调制材料和在压制期间散布的区域中的取向缺陷而经常引起点涂不均匀性(dotting unevenness)。

发明内容

技术问题

本申请涉及用于制造光学装置的方法和光学装置。本申请的一个目的是提供用于制造具有优异的性能而没有点涂不均匀性的装置的方法和以这样的方式制造的光学装置。

技术方案

本申请涉及用于制造光学装置的方法，在一个实例中，其涉及用于通过应用点涂过程来制造光学装置的方法。

本申请涉及一种用于制造光学装置的方法，包括以下步骤：对第一基底的摩擦配向膜进行摩擦，所述第一基底包括基础层以及形成在所述基础层上的间隔物和配向膜；以及对第二基底的摩擦配向膜进行摩擦，所述第二基底包括基础层和形成在所述基础层上的配向膜，其中不存在间隔物，其中在对第一基底配向膜进行摩擦时由以下方程式1确定的摩擦强度RS1和在对第二基底配向膜进行摩擦时由以下方程式1确定的摩擦强度RS2满足以下方程式2，所述摩擦强度RS1在2.5至100的范围内，以及所述摩擦强度RS1和所述摩擦强度RS2的平均值在12至250的范围内：

[方程式1]

RS1或RS2＝2×N×M×π×n×r/(v-1)

[方程式2]

RS1RS2

其中，RS1为在对所述第一基底配向膜进行摩擦时的摩擦强度，RS2为在对所述第二基底配向膜进行摩擦时的摩擦强度，N为摩擦次数的数，M为以mm计的摩擦深度，r为摩擦鼓的以mm计的半径，n为所述摩擦鼓的以rpm计的旋转速度，以及v为所述第一基底或所述第二基底相对于所述摩擦鼓的以mm/秒计的相对移动速度。