[发明专利]用于制造光学装置的方法

权利要求书

1.一种用于制造光学装置的方法，包括：对第一基底的摩擦配向膜进行摩擦，所述第一基底包括基础层和间隔物，所述第一基底的摩擦配向膜形成在包括在所述第一基底中的基础层上；以及对第二基底的摩擦配向膜进行摩擦，所述第二基底包括基础层，所述第二基底的摩擦配向膜形成在包括在所述第二基底中的基础层上，其中在所述第二基底中不存在间隔物，

还包括：

将包含液晶化合物的光调制材料点涂在所述第一基底和所述第二基底的任一个配向膜上，以及

对所述第一基底和所述第二基底中的处于与其上点涂有所述光调制材料的配向膜相对设置的状态的另一个基底进行压制，使得点涂的光调制材料填充所述配向膜之间的间隙，

其中所述配向膜为垂直配向膜，

其中在对所述第一基底的摩擦配向膜进行摩擦时由以下方程式1确定的摩擦强度RS1和在对所述第二基底的摩擦配向膜进行摩擦时由以下方程式1确定的摩擦强度RS2满足以下方程式2，以及其中所述摩擦强度RS1在2.5至100的范围内，以及所述摩擦强度RS1和所述摩擦强度RS2的平均值在12至250的范围内：

[方程式1]

RS1或RS2＝2×N×M×π×n×r/(v-1)

[方程式2]

RS1RS2

其中，RS1为在对所述第一基底的摩擦配向膜进行摩擦时的摩擦强度，RS2为在对所述第二基底的摩擦配向膜进行摩擦时的摩擦强度，N为摩擦次数的数，M为以mm计的摩擦深度，r为摩擦鼓的以mm计的半径，n为所述摩擦鼓的以rpm计的旋转速度，以及v为所述第一基底或所述第二基底相对于所述摩擦鼓的以mm/秒计的相对移动速度。

2.根据权利要求1所述的制造方法，其中所述第一基底和所述第二基底的所述基础层为塑料膜。

3.根据权利要求1所述的制造方法，其中在所述基础层上存在电极层，以及在所述电极层上形成有所述配向膜。

4.根据权利要求1所述的制造方法，其中所述配向膜包含选自以下的一者或更多者：聚酰亚胺化合物、聚乙烯醇化合物、聚酰胺酸化合物、聚苯乙烯化合物、聚酰胺化合物和聚氧乙烯化合物。

5.根据权利要求1所述的制造方法，还包括：在所述第一基底和所述第二基底相对设置使得各配向膜面向彼此的状态下，在所述配向膜之间形成光调制层。

6.根据权利要求1所述的制造方法，其中所述光调制材料还包含二色性染料。

7.根据权利要求1或5所述的制造方法，其中彼此相对设置的所述第一基底与所述第二基底之间的间隙为4μm或更大。