[发明专利]样品检查中的图像对比度增强

说明书

本文中公开了一种方法，包括：在第一时间段期间，将第一数量的电荷沉积到样品的区域中；在第二时间段期间，将第二数量的电荷沉积到该区域中；在扫描带电粒子的束在样品上生成的探针斑点的同时，从探针斑点中记录表示带电粒子的束与样品的相互作用的信号；其中第一时间段期间的平均沉积速率和第二时间段期间的平均沉积速率不同。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2017年9月29日提交的美国申请62/566,195的优先权，其全部内容通过引用并入本文。

技术领域

本公开涉及用于检查(例如，观察、测量和成像)诸如设备制造(诸如集成电路(IC)的制造)过程中使用的晶片和掩模之类的样品的方法和装置。

背景技术

设备制造过程可以包括：将期望图案施加到衬底上。图案化设备(其可替代地称为掩模或掩模版)可以用于生成期望图案。该图案可以传递到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或几个管芯的一部分)上。图案通常经由成像传递到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。单个衬底可以包含连续图案化的相邻目标部分的网络。光刻装置可以用于该传递。一种类型的光刻装置称为步进器，其中通过一次将整个图案曝光到目标部分上来照射每个目标部分。另一类型的光刻装置称为扫描仪，其中通过在给定方向上通过辐射束扫描图案，同时平行于或反平行于该方向扫描衬底，来照射每个目标部分。还可以通过将图案压印到衬底上来将图案从图案化设备传递到衬底。

为了监测设备制造过程的一个或多个步骤(例如，曝光、抗蚀剂处理、蚀刻、显影、烘烤等)，可以检查样品，诸如通过设备制造过程图案化的衬底或本文中所使用的图案化设备，其中可以测量样品的一个或多个参数。一个或多个参数可以包括例如边缘位置误差(EPE)，其是衬底或图案化设备上的图案的边缘与图案的预期设计的对应边缘之间的距离。检查还会发现图案缺陷(例如，失败的连接或失败的分离)和不请自来的颗粒。

检查在设备制造过程中使用的衬底和图案化设备可以帮助提高产率。从检查中获得的信息可以用于标识缺陷或调整设备制造过程。

发明内容

本文中公开了一种方法，包括：在第一时间段期间，将第一数量的电荷沉积到样品的区域中；在第二时间段期间，将第二数量的电荷沉积到该区域中；在扫描带电粒子的束在样品上生成的探针斑点的同时，从探针斑点中记录表示带电粒子的束与样品的相互作用的信号；其中第一时间段期间的平均沉积速率和第二时间段期间的平均沉积速率不同。

据实施例，该方法还包括：重复在第一时间段期间将第一数量的电荷沉积到该区域中和在第二时间段期间将第二数量的电荷沉积到该区域中。

根据实施例，第一数量或第二数量为零。

根据实施例，第一数量和第二数量不同。

根据实施例，第一时间段的长度和第二时间段的长度不同。

根据实施例，该区域具有化学特性或物理特性的不均匀空间分布。

根据实施例，化学特性或物理特性选自由组成、掺杂水平、电阻、电容、电感、厚度、结晶度和介电常数组成的组。

根据实施例，使用带电粒子的束来进行沉积第一数量的电荷或沉积第二数量的电荷。

根据实施例，使用包括电荷的另一束而非使用带电粒子的束来进行沉积第一数量的电荷或沉积第二数量的电荷。

根据实施例，另一束的横截面面积为带电粒子的束的横截面面积的至少2倍。

根据实施例，该区域包括第一子区域和第二子区域，其中从第一子区域消散的电荷的数量的改变速率与从第二子区域消散的电荷的数量的改变速率不同。