[发明专利]阀装置、调整信息生成方法、流量调整方法、流体控制装置、流量控制方法、半导体制造装置和半导体制造方法在审
| 申请号: | 201880062421.3 | 申请日: | 2018-09-11 |
| 公开(公告)号: | CN111164341A | 公开(公告)日: | 2020-05-15 |
| 发明(设计)人: | 近藤研太;吉田俊英;佐藤秀信;中田知宏;篠原努;滝本昌彦 | 申请(专利权)人: | 株式会社富士金 |
| 主分类号: | F16K31/122 | 分类号: | F16K31/122;F16K7/12;F16K31/02;H01L21/02;H01L21/31 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 装置 调整 信息 生成 方法 流量 流体 控制 半导体 制造 | ||
1.一种阀装置,其具有:
阀体,其划定流路;
阀芯,其设为能够对所述阀体的流路进行开闭;
操作构件,其设为能够在使所述阀芯关闭流路的闭位置和使所述阀芯开放流路的开位置之间移动,而操作所述阀芯;
调整用驱动器,其用于调整定位于所述开位置的所述操作构件的位置;
通信部,其从装置外部接收与由所述阀芯引起的流路的开度调整相关的调整信息;以及
控制部,其基于所述调整信息,驱动所述调整用驱动器而控制所述操作构件的位置。
2.根据权利要求1所述的阀装置,其中,
所述调整信息包括用于指定开度调整量的信息。
3.根据权利要求1或2所述的阀装置,其中,
所述调整信息包括用于指定实施所述开度调整的时刻的信息。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的阀装置,其中,
该阀装置具有:
主驱动器,其使所述操作构件向所述开位置或者所述闭位置移动;以及
弹簧机构,其使所述操作构件向所述开位置和所述闭位置中的另一者移动,
所述调整用驱动器调整利用所述主驱动器或者所述弹簧机构定位于所述开位置的所述操作构件的位置。
5.一种调整信息生成方法,其是生成用于权利要求1~4中任一项所述的阀装置的所述调整信息的调整信息生成方法,其中,
存储针对多个测量用的阀装置的、测量对机械特性的经时变化造成影响的环境因素和流量变化而得到的测量信息,
使用存储的所述测量信息,生成与所述阀装置的阀芯的开度调整相关的调整信息。
6.根据权利要求5所述的调整信息生成方法,其中,
参照与所述流路的开度的初始值或者基准值相关的信息,生成所述调整信息。
7.一种调整信息生成装置,其是生成用于权利要求1~4中任一项所述的阀装置的所述调整信息的调整信息生成装置,其中,
该调整信息生成装置具有:
存储部,其存储针对多个测量用的阀装置的、测量对机械特性的经时变化造成影响的环境因素和流量变化而得到的测量信息;及
生成部,其使用存储于所述存储装置的所述测量信息,生成与所述阀装置的阀芯的开度调整相关的调整信息。
8.根据权利要求7所述的调整信息生成装置,其中,
所述生成部参照与所述流路的开度的初始值或者基准值相关的信息,生成所述调整信息。
9.一种流量调整方法,其是权利要求1~4中任一项所述的阀装置的流量调整方法,其中,
从装置外部接收与由所述阀芯引起的流路的开度调整相关的调整信息,
基于接收到的所述调整信息,驱动所述调整用驱动器而调整所述操作构件的位置。
10.一种流体控制装置,其是从上游侧朝向下游侧排列有多个流体设备而成的流体控制装置,其中
所述多个流体设备包括权利要求1~4中任一项所述的阀装置。
11.一种流量控制方法,其使用权利要求1~4中任一项所述的阀装置,控制流体的流量。
12.一种半导体制造方法,其在需要如下的处理工序的半导体装置的制造工艺中,该处理工序为在密闭的腔室内的基于工艺气体的处理工序,将权利要求1~4中任一项所述的阀装置用于所述工艺气体的流量控制。
13.一种半导体制造装置,其具有向处理腔室供给工艺气体的流体控制装置,
所述流体控制装置包括多个流体设备,
所述流体设备包括权利要求1~4中任一项所述的阀装置。
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