[发明专利]近红外线截止滤光片的制造方法、层叠体及套件在审
申请号: | 201880060003.0 | 申请日: | 2018-09-13 |
公开(公告)号: | CN111095048A | 公开(公告)日: | 2020-05-01 |
发明(设计)人: | 佐藤翔;片桐良伸;仓桥哲雄 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G02B5/22 | 分类号: | G02B5/22 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 曹阳 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 红外线 截止 滤光 制造 方法 层叠 套件 | ||
本发明提供一种能够以优异的生产率制造平面性高的近红外线截止滤光片的近红外线截止滤光片的制造方法、层叠体及套件。该近红外线截止滤光片的制造方法包括:在基板的表面形成支承体层的工序;在支承体层的表面涂布包含近红外线吸收剂的近红外线吸收组合物而形成近红外线吸收组合物层的工序;对近红外线吸收组合物层进行固化处理而形成近红外线截止滤光片层的工序;从基板剥离由支承体和近红外线截止滤光片层而成的层叠体的工序;及从基板剥离的层叠体中,剥离支承体层的工序。
技术领域
本发明涉及一种近红外线截止滤光片的制造方法。并且,涉及一种使用于近红外线截止滤光片的制造方法中的层叠体及套件。
背景技术
在视频摄像机、数码照相机、带有照相机功能的移动电话等中使用作为彩色图像的固体成像元件的电荷耦合器件(CCD)或互补型金属氧化膜半导体(CMOS)等。这些固体成像元件由于其受光部中使用对近红外线具有灵敏度的硅光电二极管,因此必须进行可见度修正,而常使用近红外线截止滤光片。
作为近红外线截止滤光片,使用在玻璃基板等刚性高的基板上涂布包含近红外线吸收剂的组合物而制成的膜等。
例如,在专利文献1中,记载有一种滤光器,其具备基板及配设于基板上的粘合层,所述粘合层含有:四氮杂卟啉系色素、包含二亞胺盐的非晶质体的二亞胺系近红外线吸收色素、紫外线吸收剂、包含铜络合物或镍络合物的光稳定剂、丙烯酸系粘合剂。并且,0174~0177段中记载有如下内容:在PET(聚对苯二甲酸乙二酯)薄膜的表面形成有硅酮树脂层的剥离薄膜上,涂布粘合剂组合物并进行干燥而形成厚度为25μm的近红外线吸收粘合层来制造粘合膜,并将所获得的粘合膜贴合于防反射膜之后,剥去剥离膜,并且将其贴合于玻璃基板上来制造滤光器。
在专利文献2中,记载有红外线截止膜,其具有:透明基材;近红外线吸收层,包含极大吸收波长为750nm~920nm的近红外线吸收剂;及至少1层近红外线反射层,固定胆甾醇型液晶相而成。
以往技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2015-001649号公报
专利文献2:日本特开2014-071356号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
在使用包含近红外线吸收剂的组合物来形成膜时,为了膜的平面性或抑制厚度的不均匀等,在玻璃基板等刚性高的基板上涂布包含近红外线吸收剂的组合物来制膜。以往,作为近红外线截止滤光片,以将前述膜层叠于玻璃基板等的状态来使用,但近年来研究了对前述膜本身赋予刚性来作为具有自支承性(自立性)的膜,并从基板等剥离制膜后的膜来使用的技术。
然而,根据本发明人的研究,在从基板等剥离制膜后的膜时,膜上也有时会产生龟裂或破裂等。尤其是在膜的刚性高的情况下,有时不易从基板进行剥离,在剥离时,膜容易产生龟裂或破裂等。若在剥离时,膜上产生龟裂或破裂等,则由于产品的成品率降低,因此导致生产率降低。
另外,在专利文献1、2中,将使用包含近红外线吸收剂的组合物来获得的膜层叠在基板上而使用,或者将其粘贴至其他部件并进行层压而使用,但并没有关于从基板等仅剥离使用包含近红外线吸收剂的组合物而获得的膜的记载。
因此,本发明的目的在于提供一种能够以优异的生产率制造平面性高的近红外线截止滤光片的近红外线截止滤光片的制造方法、层叠体及套件。
用于解决技术课题的手段
本发明人等进行了深入研究的结果,发现通过后述工序能够以优异的生产率制造平面性高的近红外线截止滤光片,从而完成了本发明。本发明提供以下。
<1>一种近红外线截止滤光片的制造方法,其包括:
在基板的表面形成支承体层的工序;
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