[发明专利]用于净化聚合物熔体的方法和装置

说明书

本发明涉及一种用于净化聚合物熔体的方法和装置，利用该装置，挥发性杂质和固体杂质能从聚合物熔体中去除，其特征在于过滤元件(4)和真空室(2)的真空，聚合物熔体通过过滤元件可被引导到真空室(2)的真空中，其中，过滤元件(4)束缚固体杂质并且真空室(2)接纳挥发性杂质。

技术领域

本发明涉及一种用于净化聚合物熔体的方法以及一种用于净化聚合物熔体的装置。

背景技术

在处理热塑性的塑料时一般已知的是，在挤压过程中，例如为了制造链形的产品，聚合物熔体必须最大程度上被净化除去杂质。因此一些热塑性塑料具有一定份额的单体、低聚物、溶剂和其他挥发性的组成部分作为所述制造方法的残留物。其他聚合物、例如聚酰胺是非常低粘滞的，从而其强烈倾向于吸湿性。接收的湿气会包括或吸收在聚合物的内部。此外，在颗粒形聚合物熔化时，高份额的空气结合到熔体中。这些组成部分在这里称为挥发性杂质。

然而除了挥发性杂质之外也出现聚合物熔体的污染物，所述污染物在这里称为固体杂质。这样的固体杂质是如下污染物，其例如包含在颗粒中或作为细磨粒来自机器部件。然而此外也出现在熔体内的分解产物，所述分解产物例如在纤维制造时会导致不希望的丝折断。

在现有技术中现在通常的是，在多个过程步骤中实施聚合物熔体的净化。为了从聚合物熔体中清除挥发性杂质，通常的是，对聚合物熔体脱气。在此，聚合物熔体的熔体表面与真空置于接触中，从而挥发性的组成部分可以从熔体中脱出。该过程优选直接在通过挤压器挤出聚合物熔体时实施，如例如在EP 1 400 337 B1中公开的。在这里，在螺旋挤压机的蜗杆区段上构成脱气区，所述脱气区产生在挤压器区段中的真空。

为了去除固体杂质，聚合物熔体借助过滤元件过滤。该过程步骤通常借助过滤装置实施，如例如由DE 199 12 433 A1已知的。在此，聚合物熔体引导通过过滤元件，所述过滤元件依赖于过滤细度将固体杂质从聚合物熔体的熔体流中过滤出。

在现有技术中已知用于对聚合物熔体脱气的这样的方法和装置的多个变型和用于对聚合物熔体过滤的这样的方法和装置的多个变型。在这里需要或多或少耗费的或附加的设备，以便在多个过程步骤中能够实现聚合物熔体的净化。在这里需要相应长的停留时间，所述停留时间促进分解材料形成的危险。

发明内容

现在本发明的任务是，提供一种用于净化聚合物熔体的方法和装置，利用所述方法或装置，聚合物熔体可以以尽可能短的停留时间净化。

本发明的另一个目的在于，可以以小的仪器方面的花费实施聚合物熔体的净化。

所述任务按照本发明通过用于净化聚合物熔体的方法解决，其中，将挥发性杂质和固体杂质从聚合物熔体中去除，其特征在于，将聚合物熔体挤压通过过滤元件到真空室的真空中，其中，将固体杂质由过滤元件接纳并且将挥发性杂质收集在真空室中。

所述任务按照本发明通过用于净化聚合物熔体的装置解决，利用所述装置，挥发性杂质和固体杂质能被从聚合物熔体中去除，其特征在于过滤元件和真空室的真空，其中，聚合物熔体能被引导通过过滤元件到真空室的真空中，其中，过滤元件束缚固体杂质并且真空室接纳挥发性杂质。

本发明不同于用于对聚合物熔体进行净化的脱气和过滤的传统划分和次序。因此确定，脱气的结果不依赖于杂质颗粒是否包含在聚合物熔体中。相反地，聚合物熔体的均一性有利于挥发性杂质的排出。因此，将聚合物熔体挤压通过过滤元件到真空室的真空中。将固体杂质由过滤元件接纳并且将挥发性杂质在真空室中收集。因此，用于净化聚合物熔体的两个过程步骤能够联合成一个过程步骤。

按照本发明的装置为此具有仅一个过滤元件和真空室的真空。借此能够以小的仪器方面的花费在一个过程步骤中实施聚合物熔体的净化。将聚合物熔体挤压通过过滤元件到真空室的真空室中。