[发明专利]用于净化聚合物熔体的方法和装置

权利要求书

1.用于净化聚合物熔体的方法，其中，将挥发性杂质和固体杂质从聚合物熔体中去除，其特征在于，将聚合物熔体挤压通过过滤元件到真空室的真空中，其中，将固体杂质由过滤元件接纳并且将挥发性杂质收集在真空室中，并且能够在一个过程步骤中实施聚合物熔体的净化，其中，过滤元件(4)具有至少伸入地保持在真空室(2)中的至少一个滤烛(5)或滤板(15)。

2.按照权利要求1所述的方法，其特征在于，在真空室内在过滤元件的出口面上引导聚合物熔体。

3.按照权利要求1或2所述的方法，其特征在于，将挥发性杂质通过排气孔从真空室中导出。

4.按照权利要求1或2所述的方法，其特征在于，将在真空室中的真空调节到0.5毫巴至50毫巴的范围中的负压。

5.按照权利要求1或2所述的方法，其特征在于，将聚合物熔体收集在真空室的在过滤元件下方构成的池槽中并且通过熔体排出口导出。

6.按照权利要求1或2所述的方法，其特征在于，将聚合物熔体通过熔体入口以过压引入由过滤元件界定的压力腔中。

7.按照权利要求6所述的方法，其特征在于，以过滤元件的在40μm至1000μm范围中的过滤细度过滤聚合物熔体。

8.按照权利要求7所述的方法，其特征在于，以在10巴至100巴的范围中的过压将聚合物熔体引入压力腔中。

9.按照权利要求1或2所述的方法，其特征在于，将聚合物熔体在净化之前加热到200℃以上的温度。

10.用于利用按照权利要求1至9之一所述的方法净化聚合物熔体的装置，利用所述装置，挥发性杂质和固体杂质能被从聚合物熔体中去除，其特征在于过滤元件(4)和真空室(2)的真空，其中，聚合物熔体能被引导通过过滤元件到真空室(2)的真空中，其中，过滤元件(4)束缚固体杂质并且真空室(2)接纳挥发性杂质，过滤元件(4)具有至少伸入地保持在真空室(2)中的至少一个滤烛(5)或滤板(15)。

11.按照权利要求10所述的装置，其特征在于，真空室(2)通过排气孔(3)与收集容器(11)和真空泵(12)连接。

12.按照权利要求11所述的装置，其特征在于，在真空室(2)中的真空通过真空泵(12)能产生在0.5毫巴至50毫巴的范围中的负压。

13.按照权利要求10或11或12所述的装置，其特征在于，在真空室(2)的底部区域中，在过滤元件(4)下方构成池槽(9)，所述池槽与在室壳体(1)中的熔体排出口(8)连接。

14.按照权利要求13所述的装置，其特征在于，室壳体(1)具有熔体入口(7)，所述熔体入口通入由过滤元件(4)界定的压力腔(6)中。

15.按照权利要求10或11或12所述的装置，其特征在于，过滤元件(4)具有在40μm至1000μm的范围中的过滤细度。

16.按照权利要求14所述的装置，其特征在于，熔体入口(7)能与压力源(13)连接，通过所述压力源，聚合物熔体能以在10巴至100巴的范围中的过压引入压力腔(6)中。

17.按照权利要求13所述的装置，其特征在于，设有用于对室壳体(1)调温的加热设备(10)。