[发明专利]保持垫及其制造方法

说明书

保持垫，其为具备树脂片材的保持垫，所述树脂片材具有用于保持被研磨物的保持面，其中，下述式(1)表示的、乙醇向上述保持面的渗透速度为1.0～2.0度/秒。渗透速度＝(C₀‑C₂₀)/20···(1)C₀：刚向上述保持面滴加乙醇后的、上述乙醇与上述保持面的接触角，C₂₀：从滴加上述乙醇起20秒后的、上述乙醇与上述保持面的上述接触角。

技术领域

本发明涉及保持垫及其制造方法。

背景技术

近年来，就液晶显示器用途等所使用的玻璃基板而言，厚度的高精度化、薄膜化不断发展。对这样的被研磨物进行研磨加工时，用保持垫将被研磨物保持、并用研磨垫进行研磨来实施，对于保持垫而言，期望保持垫的吸附力高，以使得在研磨加工时被研磨物不发生横向偏移。但是，另一方面，在将这样的被研磨物供于研磨加工的情况下，若保持垫的吸附力过高，则会发生下述问题：在研磨加工后将被研磨物从保持垫剥离时，容易发生破裂。就该剥离时的破裂问题而言，除了玻璃基板等被研磨物的薄膜化外，还会因大型化而变得更严重。

为了抑制这样的被研磨物的破裂，以抑制保持垫的吸附力的方式进行调节是有效的。例如，专利文献1中公开了，在保持垫表面上设置凹部，确保被研磨物的保持性，同时控制研磨后的剥离性。另外，专利文献2中公开了，在由多孔质软质树脂形成的保持垫表面上以规定的间隔设置0.1～1.0mm的细孔，由此改善研磨后的玻璃基板的剥离性。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2013-107137号公报

专利文献2：日本特开2004-154920号公报

发明内容

发明要解决的课题

然而，专利文献1记载的方法中，存在下述这样的问题：在保持垫的保持面形成的凹部因研磨加工时的研磨压力而转印至被研磨物的表面，结果，得到的被研磨物的平坦性变差。

另外，专利文献2记载的方法中，存在下述这样的问题：浆料容易从设置于保持垫的保持面的细孔中渗入由多孔质软质树脂形成的保持垫内，因浆料的渗入，引起保持垫的化学性劣化·溶胀·破损。

本发明是鉴于上述问题点作出的，目的在于提供下述保持垫及其制造方法，所述保持垫能够发挥吸附力以使得不产生研磨时的横向偏移等，另一方面，在剥离被研磨物时能够抑制破裂，尤其适合于保持薄膜化及大型化的被研磨物。

用于解决课题的手段

本申请的发明人为了解决上述问题点进行了深入研究。结果发现，通过使保持面具有规定的渗透性，能够解决上述课题，从而完成了本发明。

即，本发明如下所述。

〔1〕保持垫，其为具备树脂片材的保持垫，所述树脂片材具有用于保持被研磨物的保持面，

下述式(1)表示的、乙醇向上述保持面的渗透速度为1.0～2.0度/秒。

渗透速度＝(C₀-C₂₀)/20···(1)

C₀：刚向上述保持面滴加乙醇后的、上述乙醇与上述保持面的接触角

C₂₀：从滴加上述乙醇起20秒后的、上述乙醇与上述保持面的上述接触角

〔2〕如〔1〕所述的保持垫，其中，向上述保持面滴加水，刚滴加上述水后的、上述水与上述保持面的接触角W₀为100～150度。

〔3〕如〔1〕或〔2〕所述的保持垫，其中，在上述保持面形成的微细孔的平均微细孔径为0.1～5.0μm。