[发明专利]电子束检查设备的台架定位

说明书

一种电子束设备包括：用于生成电子束的电子光学系统；用于将样本保持在目标位置，使得样本的目标部分被电子束照射的载物台；以及用于将载物台相对于电子束移位的定位装置。定位装置包括台架致动器和平衡质量体。台架致动器将力施加到载物台上来使得载物台加速。施加到载物台上的力导致施加到平衡质量体上的反作用力。平衡质量体响应于反作用力而移动。定位装置使得平衡质量体能够响应于反作用力在第一方向上的分量而在第一方向上移动。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2017年9月4日提交的EP申请17189213.6以及于2017年11月8日提交的美国申请62/583,290的优先权，其全部内容通过引用并入本文。

技术领域

本发明涉及针对被配置为对样本进行检查的电子束检查设备的台架定位装置。本发明涉及可应用于检查半导体器件的电子束(e-beam)检查工具。

背景技术

在半导体工艺中，不可避免地生成缺陷。这样的缺陷可能影响器件性能，甚至可能导致故障。器件良率可能因此受到影响，从而导致成本上升。为了控制半导体工艺的良率，缺陷监视很重要。用于缺陷监视的一种工具是SEM(扫描电子显微镜)，SEM使用一个或多个电子束来扫描样本的目标部分。

需要一个或多个电子束在目标部分上的精确定位来可靠地监视缺陷。可能需要进一步提高定位的要求来监视更小的缺陷。同时，期望高通量，而高通量通常需要增加样本移动的速度以及其加速度和减速度。而且，可能需要减少在样本的移动停止之后允许检查设备稳定的稳定时间。总之，以上可能导致对样本定位的准确性和动态性的要求提高。

发明内容

期望提供例如使得能够对样本进行精确定位的电子束检查设备。

根据一个方面，提供了一种电子束设备，该设备包括：

-被配置为生成电子束的电子光学系统；

-被配置为将样本保持在目标位置，使得样本的目标部分被电子束照射的载物台；以及

-被配置为将载物台相对于电子束移位的定位装置，定位装置包括台架致动器和平衡质量体，台架致动器被配置为将力施加到载物台上来使得载物台加速，施加到载物台上的力导致施加到平衡质量体上的反作用力，平衡质量体被配置为响应于反作用力而移动，

其中定位装置被配置为使得平衡质量体能够响应于反作用力在第一方向上的分量而在第一方向上移动。

附图说明

通过以下详细描述并结合附图，将容易理解本发明的实施例，其中相同的附图标记表示相同的结构元件，并且在附图中：

图1A和图1B是其中可以应用本发明的实施例的电子束检查工具的示意图。

图2和图3是可以在本发明的实施例中应用的电子光学系统的示意图。

图4示意性地描绘了可以在本发明的一个实施例中应用的EBI系统的可能控制架构。

图5A、图5B、图5C和图5D各自描绘了根据本发明的一个实施例的电子束检查设备的一部分的示意图。

图6A、图6B和图6C各自描绘了根据本发明的一个实施例的电子束检查设备的一部分的示意图。

图7A描绘了根据本发明的一个实施例的电子束检查设备的一部分的示意图。

图7B高度示意性地描绘了根据本发明的一个实施例的电子束检查设备的运动轮廓的一个实施例的时序图。

图8描绘了本发明的另一实施例。