[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，包含：

基板保持单元，包含具有上表面的旋转基座以及立设于所述上表面的多个销，用以通过所述多个销保持基板；

阻隔构件，具有：基板对向面，与被所述基板保持单元保持的基板的上表面对向；以及内周面，与被所述基板保持单元保持的基板的外周端以及所述旋转基座的外周端双方对向；

旋转单元，使所述旋转基座以及所述阻隔构件绕着预定的旋转轴线旋转；以及

正压生成构件，在被所述旋转基座的所述上表面、所述基板对向面以及所述内周面划分的空间中，以能伴随所述阻隔构件以及所述旋转基座中的至少一者的旋转而旋转的方式设置于比所述销还远离所述旋转轴线的位置，且随着所述阻隔构件以及所述旋转基座中的至少一者的旋转将所述正压生成构件的旋转方向后方设定成正压区域，

所述正压生成构件以所述旋转基座的外周端与所述内周面之间的径向的距离变成比所述正压生成构件的外侧缘与所述内周面之间的径向的最长距离还窄的方式设置。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述正压生成构件包含：连接正压生成构件，以连接至所述旋转基座的所述上表面以及所述基板对向面的方式设置。

3.如权利要求2所述的基板处理装置，其中，

所述连接正压生成构件包含：第一卡合构件以及第二卡合构件，分别设置于所述旋转基座的所述上表面以及所述基板对向面，用以彼此卡合；

所述阻隔构件经由彼此卡合的第一卡合构件以及第二卡合构件而被所述旋转基座支撑。

4.一种基板处理装置，包含：

基板保持单元，包含具有上表面的旋转基座以及立设于所述上表面的多个销，用以通过所述多个销保持基板；

阻隔构件，具有：基板对向面，与被所述基板保持单元保持的基板的上表面对向；以及内周面，与被所述基板保持单元保持的基板的外周端以及所述旋转基座的外周端双方对向；

旋转单元，使所述旋转基座以及所述阻隔构件绕着预定的旋转轴线旋转；以及

正压生成构件，在被所述旋转基座的所述上表面、所述基板对向面以及所述内周面划分的空间中，以能伴随所述阻隔构件以及所述旋转基座中的至少一者的旋转而旋转的方式设置于比所述销还远离所述旋转轴线的位置，且随着所述阻隔构件以及所述旋转基座中的至少一者的旋转将所述正压生成构件的旋转方向后方设定成正压区域，

所述正压生成构件设置于所述旋转基座的所述上表面以及所述基板对向面中的一者，

所述正压生成构件的顶端与所述旋转基座的所述上表面以及所述基板对向面中的所述一者之间的距离，以比被所述基板保持单元保持的基板与所述旋转基座的所述上表面以及所述基板对向面中的所述一者之间的距离还大的方式设置。