[发明专利]嵌段共聚物的氢化物、树脂组合物和它们的各种用途

权利要求书

1.嵌段共聚物的氢化物，具有聚合物嵌段（A）与聚合物嵌段（B），所述聚合物嵌段（A）含有超过70摩尔%的源自芳香族乙烯基化合物的结构单元，所述聚合物嵌段（B）含有30摩尔%以上的源自共轭二烯化合物的结构单元，其中，该嵌段共聚物的氢化物进一步满足下述条件，

条件（1）：所述嵌段共聚物的氢化物中的聚合物嵌段（A）的含量为1～30质量%，

条件（2）：所述共轭二烯化合物含有异戊二烯，

条件（3）：所述源自共轭二烯化合物的结构单元中，1,2-键合单元和3,4-键合单元的含量的总计为60摩尔%以上，

条件（4）：所述聚合物嵌段（B）的氢化率为60摩尔%以上，

条件（5）：存在一系列的温度区域，使得依照JIS K7244-10（2005年），在应变量0.1%、频率1Hz、测定温度-70～100℃、升温速度3℃/分钟的条件下测定的tanδ达到1.0以上，且该温度区域的最大宽度为16℃以上。

2.权利要求1所述的嵌段共聚物的氢化物，其中在所述条件（1）中，所述嵌段共聚物的氢化物中的聚合物嵌段（A）的含量为2～18质量%。

3.权利要求1或2所述的嵌段共聚物的氢化物，其中在所述条件（2）中，所述共轭二烯化合物含有20质量%以上的异戊二烯。

4.权利要求1～3中任一项所述的嵌段共聚物的氢化物，其中在所述条件（2）中，所述共轭二烯化合物含有90质量%以上的异戊二烯。

5.权利要求1～4中任一项所述的嵌段共聚物的氢化物，其中在所述条件（3）中，所述源自共轭二烯化合物的结构单元中，1,2-键合单元和3,4-键合单元的含量的总计为70摩尔%以上。

6.权利要求1～5中任一项所述的嵌段共聚物的氢化物，其中在所述条件（4）中，所述聚合物嵌段（B）的氢化率为80摩尔%以上。

7.权利要求1～6中任一项所述的嵌段共聚物的氢化物，其中所述共轭二烯化合物为异戊二烯与丁二烯的混合物，并且通过¹³C-NMR测定的化学位移值处于24～25ppm的峰的面积相对于化学位移值处于5～50ppm的峰的面积的比率为4%以下。

8.权利要求1～7中任一项所述的嵌段共聚物的氢化物，其重均分子量为20,000～800,000。

9.权利要求1～8中任一项所述的嵌段共聚物的氢化物，依照下述成形条件成形而得的厚度1mm的膜的形态具有球形（球状）的微相分离结构，

成形条件：在温度230℃、压力10MPa下进行3分钟加压。

10.权利要求1～9中任一项所述的嵌段共聚物的氢化物，其进一步满足下述条件（6），

条件（6）：存在一系列的温度区域，使得依照JIS K7244-10（2005年），在应变量0.1%、频率1Hz、测定温度-70～100℃、升温速度3℃/分钟的条件下测定的tanδ达到1.5以上，且该温度区域的最大宽度为9℃以上。

11.权利要求1～10中任一项所述的嵌段共聚物的氢化物，其进一步满足下述条件（7），

条件（7）：依照JIS K7244-10（2005年），在应变量0.1%、频率1Hz、测定温度-70～100℃、升温速度3℃/分钟的条件下测定的tanδ的峰强度的最大值为1.7以上。

12.权利要求1～11中任一项所述的嵌段共聚物的氢化物，其进一步满足下述条件（8），

条件（8）：所述聚合物嵌段（A）中的所述芳香族乙烯基化合物的核氢化率为8摩尔%以下。

13.权利要求1～12中任一项所述的嵌段共聚物的氢化物，其含有2,2-二（2-四氢呋喃基）丙烷。