[发明专利]转矩产生装置有效

专利信息
申请号: 201880050348.8 申请日: 2018-07-09
公开(公告)号: CN110998124B 公开(公告)日: 2021-08-24
发明(设计)人: 小池飞鸟;高桥一成;高桥未铃;久家祥宏;后藤厚志 申请(专利权)人: 阿尔卑斯阿尔派株式会社
主分类号: F16D63/00 分类号: F16D63/00;F16F9/12;F16F15/16
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 房永峰
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 转矩 产生 装置
【权利要求书】:

1.一种转矩产生装置,其特征在于,具备:

磁盘,能够以旋转轴为中心进行旋转动作;

第一磁轭和第二磁轭,该第一磁轭位于夹着所述磁盘的一侧,该第二磁轭位于夹着所述磁盘的另一侧;

线圈,配置为在向沿着所述旋转轴所延伸的方向的方向观察时与所述磁盘重叠;

第三磁轭,至少接近所述磁盘的区域位于所述磁盘以及所述线圈的外侧,与所述第一磁轭以及所述第二磁轭一起构成由所述线圈产生的磁场的磁路;以及

磁粘滞性流体,填充于所述磁盘与所述第一磁轭之间以及所述磁盘与所述第二磁轭之间,

所述第三磁轭在与所述第一磁轭之间具有磁间隙,

在向沿着所述旋转轴所延伸的方向的方向观察时,所述磁间隙形成于比所述磁盘的外周缘更靠外侧的位置、或与所述磁盘的外周缘重叠的位置,

所述第一磁轭具有圆筒部和外径比圆筒部大的圆环部,在向沿着所述旋转轴所延伸的方向的方向观察时,所述线圈配置于所述圆筒部的外侧与所述圆环部重叠的位置。

2.如权利要求1所述的转矩产生装置,其中,

在所述磁盘仅通过在所述第一磁轭与所述第二磁轭之间横穿的磁通。

3.如权利要求2所述的转矩产生装置,其中,

所述磁盘在所述磁通横穿的区域不存在磁间隙。

4.如权利要求1至3中任一项所述的转矩产生装置,其中,

在与所述旋转轴正交的面内,所述磁盘的外周缘与所述第三磁轭的外侧面的距离并不恒定。

5.如权利要求4所述的转矩产生装置,其中,

所述第三磁轭在俯视时为大致四边形。

6.如权利要求1至3中任一项所述的转矩产生装置,其中,

在所述线圈所产生的磁场的磁路上设有永久磁铁,该永久磁铁施加与所述线圈所产生的磁场的方向为相同朝向或相反朝向的初始磁场。

7.如权利要求1至3中任一项所述的转矩产生装置,其中,

所述第一磁轭、所述第二磁轭以及所述第三磁轭是互相独立的。

8.如权利要求1至3中任一项所述的转矩产生装置,其中,

所述转矩产生装置具备磁测定部,该磁测定部测定基于所述线圈所产生的磁场的磁化场。

9.一种转矩产生装置,其特征在于,具备:

磁盘,能够以旋转轴为中心进行旋转动作;

第一磁轭和第二磁轭,该第一磁轭位于夹着所述磁盘的一侧,该第二磁轭位于夹着所述磁盘的另一侧;

线圈,配置为在向沿着所述旋转轴所延伸的方向的方向观察时与所述磁盘重叠;

第三磁轭,至少接近所述磁盘的区域位于所述磁盘以及所述线圈的外侧,与所述第一磁轭以及所述第二磁轭一起构成由所述线圈产生的磁场的磁路;以及

磁粘滞性流体,填充于所述磁盘与所述第一磁轭之间以及所述磁盘与所述第二磁轭之间,

所述第三磁轭在与所述第一磁轭之间具有磁间隙,

在向沿着所述旋转轴所延伸的方向的方向观察时,所述磁间隙形成于比所述磁盘的外周缘更靠外侧的位置、或与所述磁盘的外周缘重叠的位置,

在与所述旋转轴正交的面内,所述磁盘的外周缘与所述第三磁轭的外侧面的距离并不恒定。

10.如权利要求9所述的转矩产生装置,其中,

在所述磁盘仅通过在所述第一磁轭与所述第二磁轭之间横穿的磁通。

11.如权利要求10所述的转矩产生装置,其中,

所述磁盘在所述磁通横穿的区域不存在磁间隙。

12.如权利要求11所述的转矩产生装置,其中,

所述第三磁轭在俯视时为大致四边形。

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