[发明专利]激光照射装置、投影掩模、激光照射方法及程序

权利要求书

1.一种激光照射装置，其特征在于，具备：

光源，其产生激光；及

投影透镜，其对于基板上被覆的非晶硅薄膜的规定的区域照射所述激光，

所述投影透镜包括：

第一投影透镜，其对于所述规定的区域中的与薄膜晶体管的沟道区域对应的第一区域照射所述激光；及

第二投影透镜，其对于所述规定的区域中的与栅极驱动器所包含的规定的元件对应的第二区域照射所述激光。

2.根据权利要求1所述的激光照射装置，其特征在于，

所述第二投影透镜是对于多个所述第二区域照射所述激光的微柱面透镜。

3.根据权利要求2所述的激光照射装置，其特征在于，

所述第二投影透镜使用所述微柱面透镜所包含的多个柱面透镜，对于多个所述第二区域的各个所述第二区域照射多次所述激光。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的激光照射装置，其特征在于，

所述激光照射装置还具备投影掩模图案，所述投影掩模图案配置在所述投影透镜上并使所述激光以规定的投影图案透过，

所述投影掩模图案包括与多个所述第一区域对应的多个第一开口部、和与所述第二区域对应的第二开口部。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的激光照射装置，其特征在于，

所述第一投影透镜是对于所述基板所包含的多个所述第一区域照射所述激光的微透镜阵列，

所述第二投影透镜向所述第二区域照射的所述激光的照射能量比所述第一投影透镜向所述第一区域照射的所述激光的照射能量大。

6.一种投影掩模，其配置在照射从光源产生的激光的投影透镜上，其特征在于，所述投影掩模包括：

多个第一开口部，对于基板上被覆的非晶硅薄膜中的与薄膜晶体管的沟道区域对应的多个第一区域，该多个第一开口部使来自所述投影透镜所包含的第一投影透镜的所述激光透过；及

第二开口部，对于所述非晶硅薄膜中的与栅极驱动器所包含的规定的元件对应的第二区域，该第二开口部使来自所述投影透镜所包含的第二投影透镜的所述激光透过。

7.根据权利要求6所述的投影掩模，其特征在于，

所述第二投影透镜是能够对于多个所述第二区域照射所述激光的微柱面透镜，

对于多个所述第二区域，所述第二开口部使来自所述微柱面透镜的所述激光透过。

8.一种激光照射方法，其特征在于，包括：

产生激光的产生步骤；及

对于基板上被覆的非晶硅薄膜的规定的区域照射所述激光的照射步骤，

在所述照射步骤中，对于所述规定的区域中的与薄膜晶体管的沟道区域对应的第一区域、和与栅极驱动器所包含的规定的元件对应的第二区域照射所述激光。

9.根据权利要求8所述的激光照射方法，其特征在于，

在所述照射步骤中，使用微柱面透镜对于多个所述第二区域的各个所述第二区域照射所述激光。

10.一种程序，其特征在于，使计算机执行：

产生激光的产生功能；及

对于基板上被覆的非晶硅薄膜的规定的区域照射所述激光的照射功能，

在所述照射功能中，对于所述规定的区域中的与薄膜晶体管的沟道区域对应的第一区域、和与栅极驱动器所包含的规定的元件对应的第二区域照射所述激光。

11.根据权利要求10所述的程序，其特征在于，

在所述照射功能中，使用微柱面透镜对于多个所述第二区域的各个所述第二区域照射所述激光。