[发明专利]喷墨头、喷墨记录装置以及喷墨头的制造方法有效
申请号: | 201880045374.1 | 申请日: | 2018-05-30 |
公开(公告)号: | CN110831769B | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 佐藤洋平;下村明久;铃木绫子;江口秀幸;山田晃久 | 申请(专利权)人: | 柯尼卡美能达株式会社 |
主分类号: | B41J2/16 | 分类号: | B41J2/16;B41J2/01;B41J2/14 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 金春实 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷墨 记录 装置 以及 制造 方法 | ||
防止喷嘴基板的射出面侧的拒液性降低。喷墨记录装置的喷墨头具备喷嘴基板(40A)。喷嘴基板(40A)具有:基板部(41),形成有射出墨的喷嘴(2411);拒液膜基底层(42A),形成于基板部(41)的射出面侧,至少在表面具有硅氮化膜或者硅氧氮化膜;以及拒液膜(43),形成于拒液膜基底层(42A)的射出面侧。
技术领域
本发明涉及喷墨头、喷墨记录装置以及喷墨头的制造方法。
背景技术
以往,已知从喷嘴吐出墨来形成图像等的喷墨记录装置。喷墨记录装置的喷墨头具有形成多个喷嘴孔并在射出面侧形成有拒液膜的喷嘴基板。
作为上述喷嘴基板,已知形成有喷嘴孔的内壁以及多个层的耐墨保护膜的喷嘴基板(参照专利文献1)。该喷嘴基板成为如下构造:首先形成覆膜性高的硅氧化膜,接下来用CVD(Chemical Vapor Deposition:化学气相蒸镀)法在内壁、射出面(表面)以及流路侧的面(背面)形成具有耐墨性的金属氧化物的保护膜,之后在射出面侧形成拒水膜(拒液膜)。该构造主要着眼于针对墨与喷嘴基板接触的状态的耐久性的提高。
另外,已知在流路侧的面形成硅氮化膜以及硅氧化膜,将该硅氧化膜与研削屑一起去除的喷嘴基板(参照专利文献2)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2009-184176号公报
专利文献2:日本特开2008-284825号公报
发明内容
另一方面,作为在喷嘴基板的射出面侧形成的拒液膜中要求的特性,可以举出抗摩耗性,如专利文献1的喷嘴基板,在金属氧化物或者硅氧化膜中由于维护时的擦除发生摩耗而拒液性易于降低。特别在射出面被包含色料的墨湿润的状态下进行擦除时,与拒液性的降低同时,拒液膜基底层的金属氧化物或者硅氧化膜发生膜的减少。
另外,在专利文献2的喷嘴基板中,也在射出面侧无保护膜,由于摩耗而拒液性降低。
本发明的课题在于防止喷嘴基板的射出面侧的拒液性降低。
为了解决上述课题,方案1记载的发明提供一种喷墨头,具备喷嘴基板,该喷嘴基板具有:
基板部,形成有射出墨的喷嘴;
拒液膜基底层,形成于所述基板部的射出面侧,至少在表面具有硅氮化膜或者硅氧氮化膜;以及
拒液膜,形成于所述拒液膜基底层的射出面侧。
方案2记载的发明在方案1记载的喷墨头中,
所述墨包含颜料分子。
方案3记载的发明在方案1或者2记载的喷墨头中,
所述墨是碱性的。
方案4记载的发明在方案1至3中的任意一项记载的喷墨头中,
所述拒液膜基底层形成于所述基板部的射出面侧以及所述喷嘴的流路内。
方案5记载的发明在方案1至4中的任意一项记载的喷墨头中,
具有形成于所述基板部的所述喷嘴的流路内的流路保护膜。
方案6记载的发明在方案1至5中的任意一项记载的喷墨头中,
所述拒液膜基底层由硅氮化膜构成。
方案7记载的发明在方案1至5中的任意一项记载的喷墨头中,
所述拒液膜基底层由硅氧氮化膜构成。
方案8记载的发明在方案1至5中的任意一项记载的喷墨头中,
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