[发明专利]具有梯度纳米结构的传感器及其使用方法有效

专利信息
申请号: 201880036490.7 申请日: 2018-06-01
公开(公告)号: CN110945344B 公开(公告)日: 2023-09-12
发明(设计)人: 李文迪;朱舟扬;李士杰 申请(专利权)人: 港大科桥有限公司
主分类号: G01N21/00 分类号: G01N21/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王冉
地址: 中国香港数码港道*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 具有 梯度 纳米 结构 传感器 及其 使用方法
【权利要求书】:

1.一种传感器,包括:

透明基板;

多个纳米柱,其在基板的中心部分从基板的表面延伸,所述纳米柱的脚部接触基板的表面;

金属盘,其位于纳米柱的顶部;

金属底板,其覆盖纳米柱的脚部附近的基板表面;

纳米孔,其穿透基板的表面,所述纳米孔至少位于基板的边缘处;

金属盘,其位于纳米孔的底部;以及

纳米孔金属板,其在纳米孔的区域中覆盖基板表面,

其中,从基板的中心到边缘,所述纳米柱的尺寸逐渐增大,然后形状过渡到纳米孔,并且纳米孔的尺寸从中心区域到边缘逐渐减小。

2.一种传感器,包括:

透明基板;

多个纳米孔,其在基板的中心部分穿透基板的表面;

金属盘,其位于纳米孔的底部;

金属纳米孔板,其在纳米孔的区域中覆盖基板表面;

多个纳米柱,其从基板的表面延伸,所述纳米柱至少位于基板的边缘处;

金属盘,其位于纳米柱的顶部;以及

金属底板,其覆盖纳米柱的脚部附近的基板表面;

其中,从基板的中心到边缘,所述纳米孔的尺寸逐渐增大,然后形状过渡到纳米柱,并且纳米柱的尺寸从中心区域到边缘逐渐减小。

3.一种传感器,包括:

基板;

纳米结构阵列,其布置成使得纳米结构具有几何尺寸,该几何尺寸随空间位置连续变化并形成梯度图案,

其中,纳米结构包括:

纳米孔,其位于朝向基板的边缘和基板的中心中的一个,

纳米柱,其位于朝向基板的中心和基板的边缘中的另一个,

金属盘,其位于纳米孔的底部和纳米柱的顶部,并且

其中,从基板的中心到边缘,所述纳米孔或纳米柱的尺寸逐渐增大,然后形状过渡到纳米柱或纳米孔中的另一个,其尺寸从中心区域到边缘逐渐减小,

所述传感器还包括:

金属底板,其覆盖所述纳米柱附近的基板表面,以及

金属板,其在纳米孔的区域中覆盖基板的表面。

4.根据权利要求3所述的传感器,其中,所述基板是塑料膜。

5.根据权利要求3所述的传感器,其中,所述纳米结构阵列具有在100nm至5000nm范围内的周期。

6.根据权利要求3所述的传感器,其中,所述纳米结构阵列布置成使得所述阵列具有梯度几何参数。

7.根据权利要求3所述的传感器,其中,所述纳米柱和纳米孔具有在10nm至1000nm范围内的横向尺寸和/或在5nm至500nm范围内的高度。

8.根据权利要求3所述的传感器,其中,位于所述纳米柱的顶部的金属盘具有与所述纳米柱相同的横向尺寸。

9.根据权利要求3所述的传感器,其中,所述金属盘和金属底板由金、银、铜、铂和钯中的一种或其组合制成。

10.根据权利要求3所述的传感器,其中,所述金属盘和金属底板的厚度在5nm至100nm的范围内。

11.一种用于制造如权利要求1至10中任一项所述的传感器的方法,包括以下步骤:

制备第一基板;

在第一基板上制备可溶抗蚀剂层;

通过光刻法在抗蚀剂层中创建权利要求1至10中任一项所述的传感器的纳米柱和纳米孔结构的梯度栅格图案;

用具有可UV固化层的第二基板覆盖第一基板,然后固化第二基板;

用具有可变形表面层的第三基板覆盖第二基板,以形成纳米柱和纳米孔的梯度纳米结构;

将第二基板上的梯度纳米结构压入第三基板,然后固化第三基板;以及

在第三基板上蒸发金属。

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