[发明专利]具有带有IR反射层以及含有多个层的高折射率氮化电介质膜的低E涂层的涂覆制品有效

专利信息
申请号: 201880028021.0 申请日: 2018-03-08
公开(公告)号: CN110573469B 公开(公告)日: 2021-03-12
发明(设计)人: 丁国文;丹尼尔·施魏格特;明·勒;布伦特·博伊斯 申请(专利权)人: 佳殿玻璃有限公司
主分类号: C03C17/36 分类号: C03C17/36
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李新红
地址: 美国密*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 具有 带有 ir 反射层 以及 含有 多个层 折射率 氮化 电介质 涂层 制品
【说明书】:

本发明公开了一种涂覆制品,其包括低发射率(低E)涂层,该低发射率(低E)涂层具有材料诸如银、金等的至少一个红外(IR)反射层,和至少一个高折射率电介质多层膜。高折射率电介质多层膜可为或可包括第一高折射率层和第二高折射率层,第一高折射率层为或包含ZrSiN和/或ZrSiAlN,第二高折射率层为或包含氧化钛(例如,T1O2)。为或包含ZrSiN和/或ZrSiAlN的第一高折射率层可以是无定形的或基本上无定形的,并且在某些示例性实施方案中,或为或包含氧化钛的第二高折射率层可以是基本上结晶的。低E涂层可用于应用诸如单片或绝缘玻璃(IG)窗单元、车窗等中。

本发明的示例性实施方案涉及一种涂覆制品,其包括低发射率(低E)涂层,该低发射率(低E)涂层具有材料诸如银、金等的至少一个红外(IR)反射层,和至少一个高折射率电介质双层膜。高折射率电介质双层膜可为或可包括第一高折射率层和第二高折射率层,第一高折射率层为或包含ZrSiN和/或ZrSiAlN,第二高折射率层为或包含氧化钛(例如,TiO2)。为或包含ZrSiN和/或ZrSiAlN的第一高折射率层可以是无定形的或基本上无定形的,并且在某些示例性实施方案中,或为或包含氧化钛的第二高折射率层可以是基本上结晶的,其中无定形方面有助于低E涂层更好地经受任选的热处理(HT)诸如热回火。在某些示例性实施方案中,低E涂层可用于应用诸如单片或绝缘玻璃(IG)窗单元、车窗等中。

背景技术和发明内容

涂覆制品在本领域中已知用于窗应用,诸如绝缘玻璃(IG)窗单元、车窗、单片窗和/或类似应用。

常规的低E涂层公开于例如但不限于美国专利号6,576,349、9,212,417、9,297,197、7,390,572、7,153,579、和9,403,345中,这些专利的公开内容据此以引用方式并入本文。

某些低E涂层利用具有高折射率(n)的氧化钛(例如,TiO2)的至少一个透明电介质层,以用于抗反射和/或着色目的。参见例如美国专利号9,212,417、9,297,197、7,390,572、7,153,579、和9,403,345。虽然高折射率电介质材料TiO2是已知的并且用于低E涂层中,但TiO2具有非常低的溅射沉积速率并且在热处理时不是热稳定的,诸如在约650℃热回火8分钟,这是由于在刚沉积或后回火状态中膜结晶(或结晶度变化),这继而可在膜叠堆中的相邻层上引起热应力或晶格应力。此类应力还可引起叠堆的物理特性或材料特性的变化,并因此影响Ag层,这导致低E叠堆性能劣化。TiO2的低溅射沉积速率导致与制备包括此类层的低E涂层相关的显著高成本。

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