[发明专利]真空泵送系统

说明书

本发明涉及真空泵送系统（10），其包括：多个真空泵送装置（12、14、16），其用于抽空可燃气体流并通过排气出口（78）排出气体流。壳体收容真空泵送装置并形成用于空气流（70）的空气流管道，该空气流用于在壳体中的混合区域（80）中与从排气出口输出的排气气体流混合。空气流发生器（77）产生通过空气流管道的空气流以引起空气与可燃气体流的混合达到可燃气体在空气流中的百分比低于可燃气体的可燃性下限。空气流量传感器（130）感测空气的流量以用于确定空气流量是否足以将可燃气体稀释到低于所述百分比。

技术领域

本发明涉及真空泵送系统。

背景技术

真空泵送系统广泛用于真空处理中，特别是在半导体制造设施中。光刻是一种这样的半导体制造工艺，其中通过受控地曝露（exposure）于辐射源来制造半导体产品。辐射源可以是紫外或极远紫外辐射。辐射源和制造设施的处理工具在所选气体存在的情况下需要真空压力，并且真空泵送系统提供在所需的真空压力下对这些气体的抽空。

发明内容

本发明提供了真空泵送系统，其包括：多个真空泵送装置，其用于抽空可燃气体流（gas stream）并通过一个或多个排气出口排出该气体流；壳体，其用于收容真空泵送装置并形成用于空气流的空气流管道，该空气流用于在壳体中的混合区域中与从一个或多个排气出口输出的排气气体流混合；空气流发生器，其用于产生通过空气流管道的空气流以引起空气与可燃气体流的混合达到可燃气体在空气流中的百分比低于可燃气体的可燃性下限；以及空气流量传感器，其用于感测空气的流量以用于确定空气流量是否足以将可燃气体稀释到低于所述百分比。

壳体可包括处于较低压力下的第一区域和处于较高压力下的第二区域，并且空气流管道由第二区域形成。

真空泵送装置可包括多个真空泵，并且第一区域收容上游真空泵且第二区域收容下游真空泵。

可存在至少两个所述空气流量传感器，其中的一个在真空泵送装置的上游，且其中的一个在真空泵送装置的下游。

系统包括控制件，并且其中，该或每个空气流量传感器可被构造成：将与感测到的空气流量有关的信号输出到控制件，以用于确定空气流量是否足以将可燃气体稀释到低于所述百分比。

在一个示例中，壳体的第二区域包括用于空气流管道的空气入口和空气出口，并且混合区域被定位在空气出口处，用于气体流的一个或多个排气出口被定位在混合区域中以用于在传送通过空气出口之前将空气流与气体流混合。混合区域可将排气出口与空气出口间隔开一距离，该距离足以允许可燃气体在通过空气出口排放之前与空气流混合到低于可燃性下限。混合区域可包括用于将可燃气体与空气流混合的挡板装置。

排气出口可布置成沿大致横向于空气流的方向排出气体流，以用于将可燃气体分散在空气流中。

壳体的第二区域可布置成没有潜在的点火源。

第二区域可被构造成用于将空气流引导到可燃气体的潜在泄漏。

锡俘获器可设置成用于收集气体流中的锡。

可存在用于感测排气流中的氧气的至少一个传感器，所述传感器相对于气体流的流动而被定位在真空泵送装置的下游，并且相对于空气流而被定位在一个或多个排气出口的上游，足以防止空气流中的氧气向上游通过排气出口迁移到氧气传感器。

可存在氢气回收系统以用于从真空泵送装置接收气体流并从气体流中回收氢气，其中，空气流管道布置成用于用管道输送围绕氢气回收系统的空气流以稀释氢气的泄漏。

可提供公共排气管线，其被连接成用于从多个真空泵送装置接收排气气体。

公共真空泵可设置成用于泵送沿着公共排气管线输送的排气气体，以减小在真空泵送装置的排气部处的压力。

氧气传感器可被定位成用于在小于大气压的压力下感测在公共真空泵上游的公共排气管线中的气体流的氧气含量。