[发明专利]蒸发源和成膜装置有效
| 申请号: | 201880027546.2 | 申请日: | 2018-04-25 |
| 公开(公告)号: | CN110573647B | 公开(公告)日: | 2021-10-08 |
| 发明(设计)人: | 中村寿充;星川健儿 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
| 主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/14;H01L51/50;H05B33/10 |
| 代理公司: | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 袁波;刘继富 |
| 地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 蒸发 装置 | ||
本发明涉及一种蒸发源,其具有蒸发源容器、加热装置、第一热屏蔽板以及第二热屏蔽板。蒸发源容器具有容器主体和多个喷嘴,该容器主体具有顶面并收容薄膜材料,该喷嘴与容器主体连结并从顶面突出而配置在单轴方向,该喷嘴具有放出薄膜材料的气化物质的开口部。加热装置加热容器主体。第一热屏蔽板与顶面分离地相向配置并具有多个第一开口部,该第一开口部具有比多个喷嘴的每一个对应设置的被喷嘴贯通的喷嘴的开口部大的第一开口区域。第二热屏蔽板在容器主体与第一热屏蔽板之间分别固定于多个喷嘴且与顶面分离地相向配置,并具有被喷嘴贯通的第二开口部,该第二开口部具有比第一开口区域大的外形。
技术领域
本发明涉及使薄膜材料气化来放出气化物质的蒸发源和具有该蒸发源的成膜装置。
背景技术
对于在例如有机EL显示装置这样的电子设备等中使用的薄膜的成膜,使用了如下的真空蒸镀装置:对薄膜材料进行加热而使其气化,并使该薄膜材料的气化物质(蒸气)附着在玻璃基板等成膜对象上。近年来,作为能够应对成膜对象的大型化的蒸发源,提出了一种将多个放出薄膜材料的气化物质的喷嘴配置成一排的线源(例如参照专利文献1)。在这样的蒸发源中,以为了加热薄膜材料而产生的辐射热不向蒸发源的外部辐射的方式设置有反射器这样的热屏蔽构件。
线源型蒸发源具有细长的长方体形状,并构成为将多个喷嘴配置成一排并与收容薄膜材料的蒸发源容器进行连接。成膜对象与配置线性蒸发源的喷嘴的面相向地配置,通过使通过加热器等加热装置加热而成的薄膜材料的气化物质从喷嘴放出,并使其附着在成膜对象来进行成膜。热屏蔽构件配置在成膜对象和蒸发容器之间,但在喷嘴附近没有配置热屏蔽构件。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2012-146658号公报。
发明内容
发明要解决的问题
在如上述结构的蒸发源中,来自加热器或来自被加热器加热了的蒸发源的辐射热经过未配置热屏蔽构件的喷嘴附近而辐射到蒸发源之外,并到达成膜对象,导致成膜对象的温度变高。若成膜对象的温度高,则存在如下问题:到达了成膜对象的薄膜材料的气化物质在成膜对象上四处移动而不能良好地附着,而且,进行再蒸发而不能良好地进行成膜。此外,在成膜对象上隔着金属掩模使薄膜成膜的情况下,存在金属掩模由于辐射热而进行膨胀导致不能得到希望的图案的薄膜的问题。特别是在使用金属掩模来形成高精细图案的薄膜的情况下,由于因该金属掩模的膨胀引起的成膜图案的位置偏移,所以在例如成膜对象为构成显示装置的基板的情况下对显示特性带来很大的影响。
鉴于如上述这样的情况,本发明的目的在于,提供一种能够使从蒸发源辐射的辐射热减少的蒸发源以及具有该蒸发源的成膜装置。
用于解决问题的方案
为了实现上述目的,本发明的一个方式的蒸发源具有蒸发源容器、加热装置、第一热屏蔽板和第二热屏蔽板。
上述蒸发源容器具有:容器主体,其具有顶面并收容薄膜材料;以及多个喷嘴,其与上述容器主体连结并从上述顶面突出而配置在单轴方向,上述喷嘴具有放出上述薄膜材料的气化物质的开口部。
上述加热装置加热上述容器主体。
上述第一热屏蔽板与上述顶面分离地相向配置并具有多个第一开口部,该第一开口部具有比多个上述喷嘴的每一个对应设置的被各上述喷嘴贯通的上述喷嘴的开口部大的第一开口区域。
上述第二热屏蔽板在上述容器主体与上述第一热屏蔽板之间分别固定在多个上述喷嘴且与上述顶面分离地相向配置,并具有被上述喷嘴贯通的第二开口部,该第二开口部具有比上述第一开口区域大的外形。
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