[发明专利]蚀刻废液处理方法有效
申请号: | 201880027139.1 | 申请日: | 2018-03-22 |
公开(公告)号: | CN110546109B | 公开(公告)日: | 2022-11-01 |
发明(设计)人: | 石川直辉;甲斐康司;中世古隆生;中岛孝仁;樱井健一;藤原武史;山崎优 | 申请(专利权)人: | 株式会社NSC |
主分类号: | C02F1/58 | 分类号: | C02F1/58;B01D53/40;C02F1/60 |
代理公司: | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人: | 龚敏;王刚 |
地址: | 日本国大阪府*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 蚀刻 废液 处理 方法 | ||
本发明提供一种废弃物处理系统和废弃物处理方法,该废弃物处理系统不管玻璃基板的蚀刻处理中产生的蚀刻废液的状态如何,都可以简易且抑制成本地实施蚀刻废液的处理。蚀刻废液处理系统(10)以对在进行玻璃基板的蚀刻处理的蚀刻装置中产生的蚀刻废液进行处理的方式构成。该蚀刻废液处理系统(10)至少具备反应槽(15)和作为无害化单元的酸性洗涤器(30)。在反应槽(15)中,一边缓和蚀刻废液的酸性度一边增稠至能够输送的程度,进而进行增稠蚀刻废液的中性污泥化。
技术领域
本发明涉及用于处理在使用氢氟酸的蚀刻处理中产生的蚀刻废液的蚀刻废液处理系统和蚀刻废液处理方法。
背景技术
近年来,在需求增加的智能手机、平板终端等中广泛使用玻璃基板。而且,根据这些智能手机、平板终端等的轻量化的要求,比以往任何时候都需要实施玻璃基板的薄型化处理。
然而,玻璃基板的薄型化处理由于环境负荷大,因此产生与此适当对应的需要。例如,作为玻璃基板的薄型化处理的一个方法的蚀刻处理中存在需要大量的氢氟酸,并且在蚀刻处理后大量产生包含氟、硼的蚀刻废液的问题。
因此,以往进行了用于有效利用对玻璃进行蚀刻处理后产生的蚀刻废液的各种各样的研究。例如,在现有技术中,存在如下技术:将蚀刻废液在减压条件下加热使其蒸发,将该蒸发的蒸气冷却使其冷凝,从而从蚀刻废液分离回收氢氟酸、盐酸(例如参照专利文献1)。而且,根据该现有技术,能够实现即使是包含氢氟酸浓度超过6%的高浓度的氢氟酸的玻璃蚀刻废液,也能够以高效率分离·回收氢氟酸。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利6062003号
发明内容
(发明要解决的课题)
如上述现有技术那样,从蚀刻废液中尽量地回收氢氟酸等有用物质进行再循环是非常有意义的,对于保护环境而言,简化将蚀刻废液无害化的处理步骤的观点也是重要的。蚀刻废液通常经由多个处理步骤被无害化而适当地被处理,通过简化该处理步骤而简化所需的设备,或者通过将所产生的废弃物的整体量进行容量减少化也可以降低环境负荷。
此外,与再循环相关的技术被指出有以下问题:因蚀刻废液所含有的氢氟酸的浓度等条件而无法适当地进行再循环,或者因在再循环方面需要很大的成本等核算上的问题而使得在可持续的状态下持续实施减少。
本发明的目的在于提供一种不管在玻璃基板的蚀刻处理中产生的蚀刻废液的状态如何,都可以简易且抑制成本地实施蚀刻废液的处理的废弃物处理系统和废弃物处理方法。
该发明涉及的蚀刻废液处理系统例如以对使用用于处理玻璃基板、半导体晶片、其它半导体基板等的氢氟酸的蚀刻处理中产生的蚀刻废液进行处理的方式构成。该蚀刻废液处理系统具备:反应槽,其以通过对蚀刻废液添加含有碱土金属的氧化物、氢氧化物或碳酸盐的碱性固化剂并使其反应,从而将蚀刻废液中性污泥化的方式构成;以及无害化单元,其以将从反应槽产生的气体无害化的方式构成。并且,该构成中,可以适当地处理蚀刻废液,而不用如以往那样进行利用钙系化合物除去氟,利用铝系化合物分解氟化硼,进而利用钙系化合物除去氟和硼这样的多阶段处理。
该蚀刻废液处理系统优选具备第一反应槽、第二反应槽和无害化单元。第一反应槽以通过对蚀刻废液添加含有碱土金属的氧化物、氢氧化物或碳酸盐的碱性固化剂并使其反应,从而一边缓和蚀刻废液的酸性度一边增稠至能够输送(送液)的程度的方式构成。碱土金属有时也意味着钙(Ca)、锶(Sr)、钡(Ba)、镭(Ra)这4种金属元素,但在该发明中,是指还包含铍(Be)、镁(Mg)的6种金属元素。作为适合用于碱性固化剂的化合物的例子,可举出CaO、Ca(OH)2、CaCO3、MgO、Mg(OH)2和MgCO3,但不限定于这些。
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