[发明专利]溅镀靶在审
| 申请号： | 201880022662.5 | 申请日： | 2018-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN110475903A | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 安田刚规;坂胁彰 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C04B35/462;H01M4/139;H01M4/58 |
| 代理公司： | 11247 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 马妮楠;曾祯<国际申请>=PCT/JP2 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 粒子 锂过渡金属氧化物 无机固体电解质 锂离子二次电池 正极活物质 锂磷氧化物 溅镀靶 烧结体 正极层 | ||
【权利要求书】：
1.一种溅镀靶，用于形成锂离子二次电池中的正极，
所述溅镀靶由包含锂、过渡金属、磷和氧的烧结体构成。
2.根据权利要求1所述的溅镀靶，其特征在于，
所述过渡金属的摩尔比高于所述磷的摩尔比。
3.根据权利要求1或2所述的溅镀靶，其特征在于，
所述锂的摩尔比高于所述过渡金属的摩尔比。
4.一种溅镀靶，用于形成锂离子二次电池中的正极，
所述溅镀靶由第1粒子和第2粒子的烧结体构成，
所述第1粒子主要包含锂磷氧化物，所述第2粒子主要包含锂过渡金属氧化物。
5.根据权利要求4所述的溅镀靶，其特征在于，
包含按摩尔比计比所述锂磷氧化物多的所述锂过渡金属氧化物。
6.根据权利要求4或5所述的溅镀靶，其特征在于，
所述第1粒子的粒径大于所述第2粒子的粒径。
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