[发明专利]表面处理铜箔及使用其的覆铜层压板有效

专利信息
申请号: 201880020021.6 申请日: 2018-03-23
公开(公告)号: CN110475909B 公开(公告)日: 2021-12-24
发明(设计)人: 佐藤章 申请(专利权)人: 古河电气工业株式会社
主分类号: B32B15/20 分类号: B32B15/20;C25D7/06
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 田喜庆
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 表面 处理 铜箔 使用 层压板
【权利要求书】:

1.一种电路用表面处理铜箔,其是通过直接激光加工进行加工的电路用表面处理铜箔,常态下的拉伸强度为400MPa至700MPa,在220℃下加热2小时后在常温下测定的拉伸强度为300MPa以上,箔厚为7μm以下,至少一面的展开面积比(Sdr)为25%至120%,且激光照射面在Yxy表色系统中,Y具有25.0%至65.5%,x具有0.30%至0.48%,y具有0.28%至0.41%。

2.根据权利要求1所述的电路用表面处理铜箔,其中,

直径30μm以上的针孔的密度为20个/m2以下。

3.根据权利要求1所述的电路用表面处理铜箔,其中,

直径30μm以上的针孔的密度为10个/m2以下。

4.一种覆铜层压板,其包含权利要求1至3中任一项所述的电路用表面处理铜箔,在所述表面处理铜箔的粗化处理层侧的面具有绝缘基板。

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