[发明专利]透明光学膜的制造方法及透明多层膜的制造方法

权利要求书

1.一种透明光学膜的制造方法，其具有以下工序：

成膜工序，包含将厚度为6nm以下的银层通过真空蒸镀进行成膜的银蒸镀工序、及将由作为标准电极电位大于银的金属的高标准电极电位金属构成的层即高标准电极电位金属层通过真空蒸镀进行成膜的高标准电极电位金属蒸镀工序，并且在基材上至少将所述银层和所述高标准电极电位金属层进行层叠成膜；以及

合金化工序，通过在200℃以上且400℃以下的温度下实施加热处理，在所述银层中使所述高标准电极电位金属扩散来形成银合金层，

所述成膜工序包含将由表面能小于银的锚金属构成的锚金属层在比所述银层更靠所述基材侧通过真空蒸镀进行成膜的锚金属蒸镀工序，

作为所述锚金属，使用选自铋、铅、镁、镓、锗的至少一种，

作为所述高标准电极电位金属，使用金，

在所述成膜工序中，依次实施所述锚金属蒸镀工序、所述高标准电极电位金属蒸镀工序和所述银蒸镀工序，

所述透明光学膜的制造方法制造包含所述银合金层的透明光学膜。

2.一种透明光学膜的制造方法，其具有以下工序：

成膜工序，包含将厚度为6nm以下的银层通过真空蒸镀进行成膜的银蒸镀工序、及将由作为标准电极电位大于银的金属的高标准电极电位金属构成的层即高标准电极电位金属层通过真空蒸镀进行成膜的高标准电极电位金属蒸镀工序，并且在基材上至少将所述银层和所述高标准电极电位金属层进行层叠成膜；以及

合金化工序，通过在200℃以上且400℃以下的温度下实施加热处理，在所述银层中使所述高标准电极电位金属扩散来形成银合金层，

所述成膜工序包含将由表面能小于银的锚金属构成的锚金属层在比所述银层更靠所述基材侧通过真空蒸镀进行成膜的锚金属蒸镀工序，

作为所述锚金属，使用选自铋、铅、镁、镓、锗的至少一种，

作为所述高标准电极电位金属，使用金，

在所述成膜工序中，依次实施所述高标准电极电位金属蒸镀工序、所述锚金属蒸镀工序和所述银蒸镀工序，

所述透明光学膜的制造方法制造包含所述银合金层的透明光学膜。

3.根据权利要求1所述的透明光学膜的制造方法，其中，

经由所述锚金属蒸镀工序、所述银蒸镀工序及所述高标准电极电位金属蒸镀工序来将所述锚金属层、所述银层及所述高标准电极电位金属层进行层叠成膜后，在含有氧的环境气体下实施所述合金化工序，由此实施氧化工序，所述氧化工序中，在形成所述银合金层的同时使所述锚金属的至少一部分氧化。

4.根据权利要求2所述的透明光学膜的制造方法，其中，

经由所述锚金属蒸镀工序、所述银蒸镀工序及所述高标准电极电位金属蒸镀工序来将所述锚金属层、所述银层及所述高标准电极电位金属层进行层叠成膜后，在含有氧的环境气体下实施所述合金化工序，由此实施氧化工序，所述氧化工序中，在形成所述银合金层的同时使所述锚金属的至少一部分氧化。

5.一种透明光学膜的制造方法，其具有以下工序：

成膜工序，包含将厚度为6nm以下的银层通过真空蒸镀进行成膜的银蒸镀工序、及将由作为标准电极电位大于银的金属的高标准电极电位金属构成的层即高标准电极电位金属层通过真空蒸镀进行成膜的高标准电极电位金属蒸镀工序，并且在基材上至少将所述银层和所述高标准电极电位金属层进行层叠成膜；以及

合金化工序，通过在200℃以上且400℃以下的温度下实施加热处理，在所述银层中使所述高标准电极电位金属扩散来形成银合金层，

所述成膜工序包含将由表面能小于银的锚金属构成的锚金属层在比所述银层更靠所述基材侧通过真空蒸镀进行成膜的锚金属蒸镀工序，

作为所述锚金属，使用选自铋、铅、镁、镓、锗的至少一种，

作为所述高标准电极电位金属，使用金，

依次实施所述锚金属蒸镀工序和所述银蒸镀工序来在所述基材上依次层叠所述锚金属层及所述银层后，实施氧化工序，所述氧化工序中，在含有氧的环境气体下进行加热处理，由此使所述锚金属的至少一部分氧化，

在该氧化工序之后，实施所述高标准电极电位金属蒸镀工序，

所述透明光学膜的制造方法制造包含所述银合金层的透明光学膜。