[发明专利]高频用晶体管有效
申请号: | 201880013005.4 | 申请日: | 2018-02-26 |
公开(公告)号: | CN110326091B | 公开(公告)日: | 2023-05-23 |
发明(设计)人: | 山本兴辉;上谷昌稔;松田慎吾;杉山宽;本吉要;中山雅央 | 申请(专利权)人: | 新唐科技日本株式会社 |
主分类号: | H01L21/338 | 分类号: | H01L21/338;H01L29/06;H01L29/812 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 吕文卓 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高频 晶体管 | ||
高频用晶体管具有源极电极(3)、漏极电极(2)、栅极电极(1)、以及向栅极电极(1)施加电压的栅极驱动布线(12),在栅极电极(1)与栅极驱动布线(12)之间连接有阻抗调整电路(4),从阻抗调整电路(4)来看与栅极电极(1)的连接点时的栅极电极(1)的特性阻抗为Z1,从阻抗调整电路(4)来看与栅极驱动布线(12)的连接点时的栅极驱动布线(12)的特性阻抗为Z2,阻抗调整电路(4)的特性阻抗X为Z1与Z2之间的值。
技术领域
本发明涉及高频用晶体管,涉及场效应晶体管(FET:Field Effect Transistor)型的高频用晶体管。
背景技术
图1是表示专利文献1中记载的FET的平面图。
如图1所示,专利文献1的FET具备动作栅极部分807o、漏极电极806、源极电极805、栅极供给部分807s、交叉连接部807c。
FET的动作栅极部分807o被漏极电极806和源极电极805夹持。另外,栅极供给部分807s与源极电极805并行配置,由动作栅极部分807o和栅极供给部分807s夹持源极电极805。并且,动作栅极部分807o通过多个交叉连接部807c而与栅极供给部分807s在多个部位进行连接。
在专利文献1中,栅极供给部分807s由与漏极电极806同等的电阻成分低的布线构成。通过将该栅极供给部分807s在多个部位与动作栅极部分807o连接,能够抑制使细长的带状线结构的动作栅极部分807o沿纵向增加时的电阻成分的增加,并且降低动作栅极部分807o和漏极电极的相位差的扩大,由动作栅极部分807o实现总栅极宽度的扩大。
图2是表示专利文献2记载的(a)微波晶体管和(b)栅极结构的平面图。
如图2的(a)和(b)所示,作为该微波晶体管的FET具备栅指(gate finger)905、栅极的总线904、栅极的输入点908、栅极的旁通线907、源极902、以及漏极的输出点909。
FET的栅指905被漏极901的指和源极902的指夹持。栅指905构成为从栅极的总线904延伸的梳状。该栅极的总线904由两段构成,从而在纵向上具备两条栅指905。并且,从栅极的总线904的中央部到所连接的栅指905的距离越远,栅指905的长度就越短。
专利文献2中,通过使栅极的总线904成为两段,从而将由一段构成时的横向扩展抑制为一半。此外,专利文献2中,通过调整与从栅极的总线904的中央部到栅指905的距离对应的栅指905的长度,从而消除了各栅指905的前端彼此的相位差。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利第1305975号公报
专利文献2:日本专利第2739851号公报
发明概要
发明要解决的课题
但是,专利文献1和专利文献2的FET中,存在栅极输入的不匹配损耗大这样的问题。并且,还有容易产生栅极和漏极的相位差这样的问题。发明内容
为此,本发明的目的是提供一种高频用晶体管,即使作为在纵向上增加指而扩大了总栅极宽度的高频用晶体管,也能够抑制对栅极的输入不匹配损耗,抑制栅极和漏极的相位差,实现高增益性能、高效率特性。
解决课题的手段
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造