[发明专利]电子束蒸发器、涂布设备和涂布方法

说明书

根据各种实施例，电子束蒸发器(100)可以包括以下部分：管状靶(102)；电子束枪(104)，用于借助于电子束(104e)在管状靶(102)的移除表面(102f)上生成至少一个蒸汽源(102q)；其中移除表面(102f)是管状靶(102)的环形轴向端面或成圆锥形地或以弯曲的方式从自由端边缘延伸的表面。

技术领域

各种示例性实施例涉及一种电子束蒸发器、涂布设备和涂布方法。

背景技术

一般来说，基于化学气相沉积或物理气相沉积的各种涂布方法可以用于涂布基板。举例来说，可以借助于电子束从所谓的靶蒸发材料，这被称为电子束蒸发。借助于电子束，可以在靶的表面上生成所谓的蒸汽源(说明性地，局部大幅度加热的区域)。蒸发的材料从蒸汽源出发传播，也就是说，蒸发的材料说明性地由蒸汽源散发。散发的材料可以凝结在基板上，例如，结果是在基板上形成层。

电子束蒸发可以按各种修改执行。通常，靶的材料(被称为靶材料)借助于电子束熔融，因此被设于坩埚中。将被涂布的基板可以例如被引导到坩埚上方，例如，以自由悬挂的方式或者位于基板载体中，并且说明性地从下面进行涂布。举例来说，所谓的电子束枪可以用于提供电子束。电子束枪包括电子束源和偏转设备，电子束源用于产生电子束，偏转设备用于静态地或动态地使电子束在期望的方向上偏转。借助于偏转设备，可以在靶的表面上生成(换句话说写入)所谓的电子束图(或说明性地图案)以使其借助于根据沿着预定义的路径的期望的电子束图引导的电子束蒸发。举例来说，具有期望的形状或者具有期望的图案的蒸汽源因此可以被生成。而且，举例来说，可以在靶的表面上彼此接着地生成多个蒸汽源。此外，还可以借助于唯一一个电子束在(例如，彼此挨着布置的)多个靶上生成一个相应的蒸汽源。电子束的偏转(其可以借助于电场和/或磁场执行)例如被称为例如束引导。

在一些涂布构造的情况下，可能有必要的或有帮助的是将电子束射入基板和靶之间的区域中，这可以相对于法线成不同角度执行，例如，基本上水平地执行、根据涂层几何结构执行。在这种情况下，电子束可以借助于对应地构造的磁场被偏转到靶表面上。一般来说，可以以电子束尽可能陡峭地(例如，基本上成直角)撞击靶表面的这样的方式提供磁场。用于产生这样的外部磁场的元件一般被称为偏转系统。

发明内容

根据各种实施例，提供使得可以以高效的方式、借助于电子束使靶材料(特别是升华靶材料和/或具有高熔点的靶材料)蒸发的电子束蒸发器。此外，变得可以不中断地、长期稳定地执行蒸发工艺。还变得可以借助于本文中所描述的电子束使将被涂布的基板仅承受低热负荷。

根据各种实施例，电子束蒸发器可以包括例如以下部分：管状靶；电子束源和束引导件(即，电子束枪)，用于借助于电子束在管状靶的移除表面上生成至少一个蒸汽源；其中移除表面是管状靶的环形轴向端面或成圆锥形地或以弯曲的方式(例如，凹形地或凸形地)从自由端边缘延伸的表面。

说明性地，移除表面是以移除表面的尺寸稳定性在有限的工艺设置时间之后被建立的这样的方式构造的。

根据各种实施例，在有限的工艺设置时间之后建立的移除表面的预期形状(说明性地，正被建立的移除轮廓)可以预先确定(例如，凭经验计算或确定)。因此，可以提供在工艺开始之前已经具有基本上与正被建立的移除轮廓相对应(即，已经尽可能地接近正被建立的移除轮廓)的初始轮廓的蒸发材料靶。结果，例如，可以节省工艺设置时间，有利于涂布工艺更快速地稳定。

根据各种实施例，涂布设备可以包括以下部分：涂布室，具有至少一个涂布区域；至少一个如本文中所描述的电子束蒸发器，用于在涂布区域中涂布基板。

根据各种实施例，涂布方法可以包括以下步骤：借助于电子束在管状靶的移除表面上生成蒸汽源，其中移除表面是管状靶的环形轴向端面或成圆锥形地或以弯曲的方式从自由端边缘延伸并且如果适当、也是弯曲的表面；并且借助于蒸汽源散发的蒸汽涂布基板。

根据各种实施例，可以提供包括多个电子束蒸发器或者包括例如多个管状靶的电子束蒸发器布置。