[发明专利]用于喷溅装置的基材支撑体

说明书

喷溅装置和方法包括室、布置在室内的靶和布置在室内的基材支撑体，所述基材支撑体包括基本由非含铝且非磁性金属材料构成的至少一部分。基材支撑体可以包括载具和用于装纳基材的装置器。在一些实施方式中，至少载具的面朝靶的表面基本由非含铝且非磁性金属材料构成。在一些实施方式中，装置器基本由非含铝且非磁性金属材料构成。喷溅装置可以是鼓式喷溅装置。喷溅方法可以是磁控喷溅方法。

技术背景

相关申请的交叉引用

本申请根据35 U.S.C.§119，要求2017年02月13日提交的美国临时申请系列第62/458,207号的优先权，本文以该申请为基础并将其全文通过引用结合于此。

技术领域

本公开涉及基材(例如玻璃基材，例如覆盖玻璃)的喷溅涂层。具体来说，本公开涉及用于将基材装纳在喷溅装置(例如，鼓式喷溅装置)中的基材支撑体。

背景技术

喷溅沉积是用于在基材上沉积材料薄膜的物理气相沉积(PVD)方法。喷溅涉及从靶(源)将材料喷射到基材(例如玻璃基材)上。

玻璃制品(例如覆盖玻璃，例如用于手机的覆盖玻璃)的制造可以具有一种或多种表面处理，以增强其功能和为终端用户提供积极的体验。例如，覆盖玻璃可以涂覆一层或多层涂层，以提供所需的特性。此类涂层包括减反射涂层、易清洁涂层和耐划痕涂层。可以采用喷溅工艺将这些涂层施涂到覆盖玻璃的表面上。用于沉积这些涂层的喷溅工艺应该产生提供所需特性的均匀且无缺陷的涂层。

因此，需要不断革新用于玻璃制品的涂层以及将这些涂层沉积到玻璃制品表面上的方法。

发明内容

本公开涉及用于在喷溅装置内装纳一个或多个基材的基材支撑体，以及包括这些基材支撑体中的一个或多个的喷溅装置。

一些实施方式涉及喷溅装置，其包括：室；布置在室内的靶；转鼓，其包括布置在室内的鼓框架；和基材支撑体，其包括连接到鼓框架的载具和用于装纳基材的装置器，所述装置器连接到载具的面朝靶的表面，以及其中，至少载具的面朝靶的表面基本由非含铝且非磁性金属材料构成。

在一些实施方式中，根据前述段落实施方式的喷溅装置可以包括载具，其包括连接到载具的面朝靶的表面的夹具，用于将装置器夹在载具上。在一些实施方式中，夹具可以基本由非含铝且非磁性材料构成。

在一些实施方式中，任意前述段落实施方式还可以包括装置器，所述装置器基本由非含铝且非磁性金属材料构成。

在一些实施方式中，任意前述段落实施方式可以包括载具，所述载具基本由非含铝且非磁性金属材料构成。

在一些实施方式中，任意前述段落实施方式可以包括基材支撑体，所述基材支撑体基本由非含铝且非磁性金属材料构成。

在一些实施方式中，任意前述段落实施方式可以包括载具，其中，至少载具的面朝靶的表面基本由不锈钢316构成。

在一些实施方式中，任意前述段落实施方式可以包括基材支撑体，其中，至少90体积％的基材支撑体基本由非含铝且非磁性金属材料构成。

在一些实施方式中，任意前述段落实施方式可以包括载具，所述载具包括限定了载具的面朝靶的表面的板。在一些实施方式中，板可以是中空板，和/或板可以基本由不具有磁荷的不锈钢316构成。在一些实施方式中，可以通过在600摄氏度至1400摄氏度的温度范围对不锈钢进行热处理来去除磁荷。

在一些实施方式中，任意前述段落实施方式可以包括装置器，其包括底板和连接到底板的顶板，用于在它们之间夹住基材，以及顶板和底板基本由非含铝且非磁性金属材料构成。在一些实施方式中，任意前述段落实施方式可以包括装置器，其包括真空板，所述真空板具有多个通孔和布置在真空板的顶表面的一部分上的双面粘合剂层，用于与基材粘附，以及真空板基本由非含铝且非磁性金属材料构成。