[发明专利]用于在真空腔室中的载体对准的设备和在真空腔室中对准载体的真空系统及方法有效
| 申请号: | 201880010796.5 | 申请日: | 2018-04-03 |
| 公开(公告)号: | CN110573646B | 公开(公告)日: | 2021-08-27 |
| 发明(设计)人: | 马蒂亚斯·赫曼尼斯;托马索·维尔切斯;斯蒂芬·班格特;U·奥尔登多夫;阿希姆·赫维格 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
| 主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68;C23C14/04;C23C14/56;C23C16/04;H01L21/677;C23C16/458;H01L21/687 |
| 代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 空腔 中的 载体 对准 设备 真空 系统 方法 | ||
描述了一种用于在真空腔室(101)中的载体对准的设备(100)。此设备包括支撑件(110),在真空腔室(101)中于第一方向(X)中延伸;磁性悬浮系统(120),装配以在真空腔室(101)内于第一方向(X)中传送第一载体(10),磁性悬浮系统包括至少一个磁铁单元(121),以及对准系统(130),对准系统(130)用以对准第一载体(10)。此至少一个磁铁单元(121)及对准系统刚性地固定于支撑件(110)。再者,描述了一种对准载体的真空系统及方法。
技术领域
本公开的数个实施方式是有关于一种用于在真空腔室中对准载体的设备及真空系统,及有关于一种在真空腔室中对准载体的方法。更特别是,说明一种在真空腔室中传送、定位、及对准运载基板的基板载体的方法。本公开的数个实施方式特别是有关于一种用以沉积材料于由载体所运载的基板上的真空沉积系统,其中在沉积之前,基板相对于掩模对准。此处所述的数种方法及设备可使用于有机发光二极管装置(organic light-emitting diode,OLED) 的制造中。
背景技术
用于在基板上的层沉积的技术举例为包括热蒸发、物理气相沉积 (physicalvapor deposition,PVD)、及化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)。已涂布的基板可使用于数种应用中及数种技术领域中。举例来说,已涂布的基板可使用于有机发光二极管(OLED)装置的领域中。 OLED可使用于制造电视屏幕、计算机屏幕、移动电话、其他手持装置及举例为用于显示数据的类似物。OLED装置例如是OLED显示器,OLED装置可包括一或多个有机材料层,位于全沉积于基板上的两个电极之间。
在沉积涂布材料于基板上期间,基板载体可支承基板,及掩模载体可支承掩模于基板的前方。对应于掩模的开孔图案的材料图案可举例为通过蒸发来沉积于基板上。材料图案举例为数个像素。
OLED装置的功能一般取决于必须在预定范围中的涂布图案的准确性及有机材料的厚度。为了取得高分辨率的OLED装置,必须克服有关于沉积已蒸发的材料的数个技术挑战。特别是,准确及平顺传送运载基板的基板载体及/或运载掩模的掩模载体通过真空系统具有挑战性。再者,为了达成高质量的沉积结果来举例为用于制造高分辨率的OLED装置,相对于掩模的基板的精准对准为关键。再进一步而言,涂布材料的有效利用为有益的,及系统的空闲时间仅可能的保持越短越好。
有鉴于上述,提供数种用以在真空腔室中准确地及可靠地传送、定位及 /或对准数个载体的设备、系统及方法是有利的。此些载体用以运载数个基板及/或数个掩模。
发明内容
有鉴于上述,提出一种用于在真空腔室中的载体对准的设备及真空系统,及一种于真空腔室中对准基板载体的方法。本公开的其他方面、优点、及特征通过权利要求书、说明、及附图更为清楚。
根据本公开的一方面,提出一种用于在真空腔室中的载体对准的设备。此设备包括支撑件,在真空腔室中于第一方向中延伸;磁性悬浮系统,装配以于第一方向中传送第一载体,其中磁性悬浮系统包括至少一个磁铁单元,以及对准系统,对准系统用以对准第一载体。所述至少一个磁铁单元及对准系统固定于支撑件。
于一些实施方式中,第一载体为基板载体,装配以运载基板。于一些实施方式中,对准系统被装配,以相对于第二载体对准第一载体,第一载体举例为基板载体,第二载体举例为掩模载体,以沉积材料于由第一载体所运载的基板上。
根据本公开的另一方面,提出一种用于在真空腔室中的载体对准的真空系统。此真空系统包括真空腔室,具有顶壁及侧壁;支撑件于顶壁设置于真空腔室中;及对准系统,用以对准第一载体,对准系统固定于支撑件,其中对准系统延伸通过侧壁及柔性地(flexibly)连接于侧壁,特别是经由振动阻尼元件或振动隔离元件柔性地连接于侧壁。
于一些实施方式中,真空系统为真空沉积系统,包括沉积源,沉积源用以在真空腔室中沉积材料于基板上。第一载体运载此基板。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料公司,未经应用材料公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880010796.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:富铝的AlTiN基膜
- 下一篇:蒸发源和成膜装置
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





