[发明专利]用于基板的自动光学检查的设备和方法

说明书

提供一种用于基板的光学检查的系统。此系统包括至少第一处理腔室及第二处理腔室。此系统包括至少传送腔室，用以从第一处理腔室接收基板及用以传送所述基板至第二处理腔室。传送腔室设置有检查装置，检查装置用以对在第一处理腔室中处理的基板执行光学检查。

技术领域

本发明的数个实施方式涉及用于基板的光学检查的设备、系统及方法。再者，本公开的实施方式涉及用于在制造系统中的基板线上的光学检查的设备、系统及方法，及涉及用以相对于掩模元件对准基板的位置的系统。

背景技术

数种方法已知而用以沉积材料于基板上。作为例子来说，基板可利用蒸发工艺、物理气相沉积(physical vapor deposition，PVD)工艺或化学气相沉积(chemical vapordeposition，CVD)工艺涂布。物理气相沉积工艺例如是溅射工艺、喷涂工艺等。工艺可在沉积设备的处理腔室中执行，待涂布的基板定位在沉积设备的处理腔室中。沉积材料在处理腔室中提供。多种材料可用来沉积于基板上，所述材料例如是有机材料、分子、金属、氧化物、氮化物及碳化物。再者，像是蚀刻、成型(structuring)、退火(annealing)或类似的其他工艺可在处理腔室中进行。

举例来说，针对举例为显示器制造技术中的大面积基板而言，可考虑涂布工艺。已涂布的基板可用于数种应用中及数种技术领域中。举例来说，一种应用可为有机发光二极管(organic light emitting diode，OLED)面板。其他应用包括绝缘面板、例如是半导体装置的微电子学、具有薄膜晶体管(thin film transistors，TFTs)的基板、彩色滤光片或类似物。OLED是固态装置，由(有机)分子的薄膜所组成。(有机)分子的薄膜由电的应用而产生光。作为例子来说，相较于举例为液晶显示器(liquid crystal displays，LCDs)来说，OLED显示器可在电子装置上提供明亮的显示器，及使用较少的电力。在处理腔室中，产生有机分子(举例为蒸发、溅射或喷涂等)，及有机分子在基板上沉积成层。粒子可举例为通过具有边界或特定图案的掩模，以沉积材料于基板上的所需位置，而举例为形成OLED图案于基板上。

有关于已处理的基板的质量的一方面是相对于掩模的基板的对准，已处理的基板的质量特别是已沉积的层的质量。作为例子来说，对准应为准确及稳定的，以达到良好的处理结果。针对此目的来说，位于基板上及掩模上的参考点(基准(fiducial))用以在沉积工艺之前正确地对准掩模与基板。然而，这些参考点之间的关系可能容易受到外在干扰影响，例如是振动、制造公差、操控(handling)、变形等。因此，可提供自动光学检查(automatedoptical inspection，AOI)以取得所谓的“偏差值(offset values)”。偏差值定义掩模及基板必须如何对准，以匹配掩模图案与背板(backplane)(举例为基板)图案。

当基板在水平位置中涂布时，使用自动光学检查的方案是有效率的。举例来说，在水平位置中的AOI检查可使用在虚拟(dummy)玻璃沉积的生产线的端处的测量结果，以传送反馈来调整掩模偏移。

当基板及掩模在沉积期间维持在基本上垂直位置中时，额外的数个方面显现而影响掩模及基板之间的对准。传统线的端处的自动光学检查较没有效率。实际上，既然于垂直系统中的基板及掩模两者面临作用在系统构造的相同方向中的重力，特别是针对大面积基板来说，此力会导致基板与掩模之间的相对偏移。此外，就处理而言，基板可从水平配置移动至垂直配置，及反之亦然。此可能影响相对于掩模的基板对准。在此情况中，举例为利用虚拟玻璃沉积的在线的端处的腔室中的标准AOI检查可能不足。

有鉴于上述，甚至是在垂直位置中进行涂布时，需要可提供基板的改善的自动光学检查的设备、系统及方法。

发明内容

根据一个实施方式，提出一种用于光学检查的设备。此设备被构造，以检查在至少第一处理腔室及第二处理腔室中处理的基板。此设备包括检查装置，用于在第一处理腔室与第二处理腔室之间对在第一处理腔室中处理的基板执行光学检查。