[发明专利]用于基板的自动光学检查的设备和方法

权利要求书

1.一种用于在至少第一处理腔室及第二处理腔室中处理的基板的光学检查的设备，所述设备包括：

检查装置，用于在所述第一处理腔室与所述第二处理腔室之间对在所述第一处理腔室中处理的所述基板执行光学检查。

2.如权利要求1所述的设备，所述装置被构造成用于在基本上垂直位置中的基板的所述光学检查。

3.如前述的权利要求的任一项所述的设备，其中所述检查装置检测偏差掩模值，所述偏差掩模值对应于相对于掩模元件的所述基板的相对位置。

4.如前述的权利要求任一项所述的设备，其中所述检查装置至少包括：

光源，用以照明所述基板；

一或多个图像捕获装置，用以拍摄所述基板的至少一部分的一或多个图像；以及

处理装置，用以处理撷取的图像。

5.如前述的权利要求任一项所述的设备，其中所述检查装置进一步包括至少光学元件68，用以检测荧光。

6.如前述的权利要求任一项所述的设备，其中所述检查装置被定位，以检查维持于真空条件下的所述基板。

7.如前述的权利要求任一项所述的设备，其中所述检查装置为线上检查系统。

8.一种用于基板的光学检查的系统，所述系统包括：

至少第一处理腔室及第二处理腔室；以及

至少传送腔室，用以从所述第一处理腔室接收所述基板及用以传送所述基板至所述第二处理腔室；

其中所述传送腔室设置有检查装置，所述检查装置用以对在所述第一处理腔室中处理的所述基板执行光学检查。

9.一种用于基板的线上的光学检查的方法，所述方法包括：

从第一处理腔室接收所述基板；

对在所述第一处理腔室中根据沉积参数处理的所述基板执行光学检查；

取得所述基板的质量的信息数据；

回送所述信息数据至所述第一处理腔室；以及

调适所述沉积参数来于所述第一处理腔室中处理后续的基板。

10.如权利要求9所述的方法，其中执行所述光学检查包括：

照明所述基板；

撷取所述基板的至少一部分的图像；以及

处理以不同的光条件拍摄的所述基板的图像。

11.如权利要求10所述的方法，其中所述基板的所述部分包括装置像素及/或控制像素。

12.如权利要求9至11项任一项所述的方法，其中取得信息数据包括计算偏差掩模值，所述偏差掩模值对应于相对于掩模元件的所述基板的相对位置，所述掩模元件位于所述基板与沉积源之间。

13.如权利要求12项所述的方法，所述方法进一步包括通过平均来自撷取的图像的所述信息数据，计算所述基板的偏差掩模值，撷取的图像是由多个图像捕获装置拍摄及针对所述基板的多个部分拍摄。

14.如权利要求9至13的任一项所述的方法，其中执行所述光学检查包括在荧光照明下拍摄所述基板的至少图像。

15.一种用以相对于掩模元件对准基板的位置的系统，所述掩模元件耦接于所述基板，其中所述基板及所述掩模元件位于基本上垂直位置中，所述系统包括：

检查装置，用以光学地检查相对于所述基板的所述掩模元件的相对的位置，所述掩模元件使用于在处理腔室中处理所述基板，及所述检查装置位于所述处理腔室后；

处理装置，用以计算对应的偏差掩模值；以及

调整装置，用以响应于计算的所述偏差掩模值，相对于所述基板调整所述掩模元件的所述位置。