[发明专利]处理掩模布置的方法、用于掩模布置的光学检查的参考基板和真空沉积系统

说明书

提供了一种用于掩模布置的光学检查的方法。所述方法包括将掩模布置接收在设有参考基板的检查腔室中。此外，所述方法包括将所述掩模布置相对于所述参考基板对准。另外，所述方法包括用光学检查装置检查所述掩模布置的至少一部分与所述参考基板的至少一部分之间的相对定位，以获得关于所述掩模布置的信息数据。

技术领域

本公开内容的实施方式涉及一种用于处理掩模布置的方法。本公开内容的实施方式涉及一种用于掩模布置的光学检查的参考基板，尤其是一种在用于处理掩模布置的方法中使用的参考基板。本公开内容的实施方式涉及一种真空沉积系统，具体是一种用于处理掩模布置的真空沉积系统，更具体是一种用于执行用于处理掩模布置的方法的真空沉积系统。本公开内容的实施方式涉及用于处理掩模布置的方法和系统、以及用于掩模布置的光学检查的基板，具体是在显示器制造中，更具体是在OLED显示器制造中。

背景技术

用于在基板上进行层沉积的技术包括例如热蒸发、物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)。可以在若干应用和若干技术领域中使用涂覆基板。例如，可以在有机发光二极管(OLED)装置领域中使用涂覆基板。OLED可以用于制造用于显示信息的电视机屏幕、计算机监视器、移动电话、其它手持装置和类似者。OLED装置，诸如OLED显示器，可包括置于两个电极之间的一个或多个有机材料层，一个或多个有机材料层都沉积在基板上。

在OLED装置的生产中，为了实现高分辨率OLED装置，存在技术挑战。具体是在沉积期间，基板布置相对于掩模布置的准确对准对于实现高质量处理结果(例如，生产高分辨率OLED装置)是关键的。

基板布置相对于掩模布置的对准可能受各种因素的影响，例如处理条件、真空沉积系统质量、还有基板布置的质量和掩模布置的质量。

鉴于上述，克服本领域中的至少一些问题的新颖方法、设备和系统是有益的。本公开内容具体旨在提供一种用于处理掩模布置的新颖方法。本公开内容进一步旨在有益地提供一种改善的真空系统。本公开内容旨在有益地提供用于掩模布置的光学检查的新颖参考基板，尤其是供在用于处理掩模布置的方法中使用。

发明内容

鉴于上述，提供了一种用于处理掩模布置的方法、一种用于掩模布置的光学检查的参考基板、以及一种真空沉积系统。本公开内容的另外方面、益处和特征从权利要求书、说明书和附图中显而易见。

根据本公开内容的一方面，提供了一种用于处理掩模布置的方法。所述方法包括将掩模布置接收在设有参考基板的检查腔室中。此外，所述方法包括将所述掩模布置相对于所述参考基板对准。另外，所述方法包括用光学检查装置检查所述掩模布置的至少一部分与所述参考基板的至少一部分之间的相对定位以获得关于所述掩模布置的信息数据。

根据本公开内容的又一方面，提供了一种用于掩模布置的光学检查的参考基板。所述参考基板包括设有参考图案的参考基板基底。此外，所述参考图案包括多个参考像素，所述参考像素中的至少一个设有提供参考像素信息的光学可读标签。

根据本公开内容的另一方面，提供了一种在如本文所述的方法中使用的参考基板。所述参考基板包括设有参考图案的参考基板基底。此外，所述参考图案包括多个参考像素，所述参考像素中的至少一个设有提供参考像素信息的光学可读标签。

根据本公开内容的又一方面，提供了一种真空沉积系统。所述真空沉积系统包括检查腔室。此外，所述检查腔室设有第一对准系统，所述第一对准系统被配置为将掩模布置相对于参考基板对准。另外，所述检查腔室设有光学检查装置，所述光学检查装置被配置为光学地检查所述掩模布置。所述真空沉积系统进一步包括沉积腔室，所述沉积腔室设有沉积源，所述沉积源被配置为通过所述掩模布置将材料沉积在基板上。另外，所述真空沉积系统包括运输系统，所述运输系统被配置为将所述掩模布置从所述检查腔室运输到所述沉积腔室。