[发明专利]处理掩模布置的方法、用于掩模布置的光学检查的参考基板和真空沉积系统

权利要求书

1.一种处理掩模布置的方法，所述方法包括：

-将所述掩模布置接收在检查腔室中，参考基板设置在所述检查腔室中；

-将所述掩模布置相对于所述参考基板对准；和

-用光学检查装置检查所述掩模布置的至少一部分与所述参考基板的至少一部分之间的相对定位，以获得关于所述掩模布置的信息数据。

2.根据权利要求1所述的方法，所述信息数据包括以下中的至少一个：

-关于所述掩模布置的质量的信息；

-所述参考基板的参考图案与所述掩模的多个沉积开口之间的偏移值，具体是对应于所述参考基板的所述参考图案与所述掩模的所述多个沉积开口之间的局部偏移的所述偏移值；和

-关于所述掩模和承载所述掩模的掩模载体之间的相对定位的信息。

3.根据权利要求1或2所述的方法，进一步包括：在将所述掩模布置接收在所述检查腔室中之前，进行以下操作中的至少一个：

-将所述掩模附接到掩模载体以提供所述掩模布置；

-改变所述掩模的取向，具体是从基本上水平的取向到基本上竖直的取向；和

-调节所述掩模。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，进一步包括：在获得所述信息数据之后，进行以下操作：

-将所述掩模布置从所述检查腔室运输到沉积腔室；和

-利用所述掩模布置在要在所述沉积腔室中处理的基板上进行沉积。

5.根据权利要求4所述的方法，包括基于所述信息数据或基于从所述信息数据确定的对准数据而在所述沉积腔室中将要处理的基板相对于所述掩模布置对准。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中所述参考基板和所述掩模布置中的至少一个设有参考标记，具体是基准标记，所述参考标记被用作所述对准的参考点。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其中所述掩模具有多个沉积开口，并且所述参考基板设有参考图案，其中检查所述相对定位包括：

-用所述光学检查装置捕获所述参考图案的至少一部分和所述多个沉积开口的至少一部分的至少一个图像；和

-确定所述多个沉积开口的所述至少一部分与所述参考图案的所述至少一部分之间的局部偏移。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述参考图案包括多个参考像素，所述多个参考像素的至少一个子集以对应于用于所述掩模的所述多个沉积开口的目标图案的至少一部分的图案布置。

9.一种用于具体是根据权利要求1至8中任一项所述的方法的掩模布置的光学检查的参考基板，所述参考基板包括设有参考图案的参考基板基底，所述参考图案包括多个参考像素，所述参考像素中的至少一个设有提供参考像素信息的光学可读标签。

10.根据权利要求9所述的参考基板，其中所述光学可读标签包括线性条形码和2D条形码中的至少一种。

11.根据权利要求9或10所述的参考基板，其中所述参考像素信息包括像素类型、像素颜色、像素位置、像素相对位置、像素绝对位置、像素行和像素列中的至少一个。

12.根据权利要求9至11中任一项所述的参考基板，其中所述参考图案对应于适于OLED显示器的像素图案。

13.一种真空沉积系统，包括：

-检查腔室，所述检查腔室设有：

-第一对准系统，所述第一对准系统被配置为将掩模布置相对于参考基板对准；和

-光学检查装置，所述光学检查装置被配置为光学地检查所述掩模布置；

-沉积腔室，所述沉积腔室设有沉积源，所述沉积源被配置为通过所述掩模布置将材料沉积在要处理的基板上；和

-运输系统，所述运输系统被配置为将所述掩模布置从所述检查腔室运输到所述沉积腔室。