[实用新型]一种局部增强型8字形经颅磁刺激线圈有效
| 申请号： | 201822247711.5 | 申请日： | 2018-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN209662447U | 公开（公告）日： | 2019-11-22 |
| 发明（设计）人： | 余勇;黄开文;张仁龙 | 申请（专利权）人： | 北京神畅科技发展有限公司 |
| 主分类号： | A61N2/04 | 分类号： | A61N2/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100029 北京市朝阳区安*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 经颅磁刺激线圈 中心区域 局部增强型 背面中心区域 本实用新型 凹陷形状 磁场脉冲 等厚结构 脉冲影响 区域磁场 正面线圈 等效电 聚焦性 刺激 等厚 加工 | ||
【权利要求书】：
1.一种8字形经颅磁刺激线圈，由两个圆形线圈组成，所述两个圆形线圈在交点处电流方向一致，其特征在于，所述两个圆形线圈交点区域一定范围内线圈厚度为d1，其他区域线圈厚度为d2，且d1＜d2。
2.如权利要求1所述的8字形经颅磁刺激线圈，其特征在于，所述厚度为d1的区域范围为以两圆形线圈交点为中心，半径小于所述圆形线圈平均半径。
3.如权利要求1所述的8字形经颅磁刺激线圈，其特征在于，d1:d2＝0.2～0.8。
4.如权利要求1所述的8字形经颅磁刺激线圈，其特征在于，所述8字形经颅磁刺激线圈的正面，所述两个圆形线圈表面在同一平面内，为与患者接触方向；所述8字形经颅磁刺激线圈的背面存在部分凹陷区域，所述凹陷区域内线圈厚度为d1，空间上远离与患者接触的方向。
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