[实用新型]一种易剥离的研磨垫有效
| 申请号： | 201822240567.2 | 申请日： | 2018-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN209665091U | 公开（公告）日： | 2019-11-22 |
| 发明（设计）人： | 戴文俊 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 31275 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人： | 吴世华;马盼<国际申请>=<国际公布>= |
| 地址： | 201210 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨垫 螺旋状沟槽 环状沟槽 本实用新型 维护保养 一端连接 易剥离 背胶 边缘位置 有效运行 中心重合 圆心 抛光机 产能 撕掉 粘贴 | ||
1.一种易剥离的研磨垫，其特征在于，所述研磨垫包括缺口、沟槽Ⅰ、沟槽Ⅱ和背胶，所述背胶位于所述研磨垫的背部，用于将研磨垫粘贴在抛光机上，所述缺口、沟槽Ⅰ和沟槽Ⅱ位于所述研磨垫的正面，
其中，所述沟槽Ⅰ包括M个环状沟槽，且环状沟槽的圆心与研磨垫的中心重合；所述沟槽Ⅱ为螺旋状沟槽，且所述螺旋状沟槽的一端连接所述缺口，另一端连接直径最小的环状沟槽；所述缺口位于所述研磨垫的边缘位置。
2.根据权利要求1所述的一种易剥离的研磨垫，其特征在于，所述研磨垫为圆形。
3.根据权利要求1所述的一种易剥离的研磨垫，其特征在于，所述研磨垫的厚度为1500微米。
4.根据权利要求1所述的一种易剥离的研磨垫，其特征在于，所述沟槽Ⅰ中M个环状沟槽的深度相同。
5.根据权利要求4所述的一种易剥离的研磨垫，其特征在于，所述环状沟槽的顶部宽度和底部宽度相同。
6.根据权利要求4所述的一种易剥离的研磨垫，其特征在于，所述环状沟槽的深度为500微米-600微米。
7.根据权利要求1所述的一种易剥离的研磨垫，其特征在于，所述沟槽Ⅱ在竖直方向上为顶部宽底部窄的锥形。
8.根据权利要求7所述的一种易剥离的研磨垫，其特征在于，所述沟槽Ⅱ的深度为1000微米-1200微米。
9.根据权利要求7所述的一种易剥离的研磨垫，其特征在于，所述沟槽Ⅱ的顶部宽度为200微米。
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