[实用新型]减少薄膜晶格缺陷的装置有效
| 申请号: | 201822208580.X | 申请日: | 2018-12-26 |
| 公开(公告)号: | CN209328933U | 公开(公告)日: | 2019-08-30 |
| 发明(设计)人: | 范继良 | 申请(专利权)人: | 黄剑鸣 |
| 主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 张艳美;王志 |
| 地址: | 中国香港新界大埔*** | 国省代码: | 中国香港;81 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 物镜 直线往复运动 反射镜 脉冲式激光 发射器 薄膜晶格 硅片 脉冲激光照射 本实用新型 反射镜设置 薄膜原子 表面缺陷 滑动设置 转换效率 悬挂键 减小 正对 沉积 薄膜 聚焦 扫描 电池 | ||
1.一种减少薄膜晶格缺陷的装置,其特征在于,包括机架、脉冲式激光发射器、X轴移动平台、Y轴移动平台、反射镜及物镜,所述脉冲式激光发射器设置于所述机架上,X轴移动平台呈水平的滑动设置于所述机架上,所述X轴移动平台借由一第一直线往复驱动机构驱动其可沿X轴方向进行直线往复运动,所述Y轴移动平台呈水平的滑动设置于所述机架上,所述Y轴移动平台借由一第二直线往复驱动机构驱动其可沿Y轴方向进行直线往复运动,所述X轴移动平台位于所述Y轴移动平台下方,所述X轴方向与所述Y轴方向相互垂直,所述反射镜及所述物镜连接于所述Y轴移动平台上,所述脉冲式激光发射器沿Y轴方向正对所述反射镜设置且二者位于同一水平面,所述物镜位于所述反射镜的正下方,所述物镜位于所述X轴移动平台的上方,所述脉冲式激光发射器发射出的脉冲激光经所述反射镜反射后射入所述物镜中,射入所述物镜的脉冲激光从所述物镜中折射后进行聚焦。
2.如权利要求1所述减少薄膜晶格缺陷的装置,其特征在于,还包括X轴导轨,所述X轴导轨沿所述X轴方向设置于所述机架上,所述X轴移动平台呈滑动的设置于所述X轴导轨上。
3.如权利要求1所述减少薄膜晶格缺陷的装置,其特征在于,还包括Y轴导轨,所述Y轴导轨沿所述Y轴方向设置于所述机架上,所述Y轴移动平台呈滑动的设置于所述Y轴导轨上。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





