[实用新型]非接触式高度补偿装置有效

专利信息
申请号: 201822205860.5 申请日: 2018-12-26
公开(公告)号: CN209016042U 公开(公告)日: 2019-06-21
发明(设计)人: 邱鸿毅;施心星;张文;李斌 申请(专利权)人: 苏州镭明激光科技有限公司
主分类号: H01L21/687 分类号: H01L21/687;H01L21/68;H01L21/66
代理公司: 苏州唯亚智冠知识产权代理有限公司 32289 代理人: 高玉蓉
地址: 215000 江苏省苏州市工业园区金鸡*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 调节装置 加工平台 多轴 定位支架 高度补偿装置 非接触式 引导组件 传感器 衔接 数据处理装置 双向驱动装置 本实用新型 高精度调节 工作端 三轴 干预 检测
【说明书】:

实用新型涉及一种非接触式高度补偿装置,包括有衔接定位支架,衔接定位支架上安装有Z轴引导组件,Z轴引导组件上设置有多轴调节装置,多轴调节装置上安装有加工平台,加工平台上安装有传感器,传感器上设置有数据处理装置,衔接定位支架上安装有Z轴驱动装置,Z轴驱动装置的工作端与多轴调节装置相连,多轴调节装置为XY轴双向驱动装置,包括有X轴导轨,X轴导轨上安装有X轴滑块,X轴滑块上连接有X轴驱动装置,X轴滑块上安装有Y轴导轨,加工平台的底部与Y轴导轨相连,加工平台上连接有Y轴驱动装置。由此,能够实现三轴的高精度调节,无需人工进行检测干预。

技术领域

本实用新型涉及一种补偿装置,尤其涉及一种非接触式高度补偿装置。

背景技术

随着半导体芯片的逐步扩大,目前主流晶圆尺寸已经从8寸扩大到了12寸,随着尺寸变大切割道变窄,单片晶圆获得的晶粒也逐步变多。随之会带来一些加工问题,大幅面的芯片加工很难控制z轴方向的高度差,高度差的产生使得产品加工效果不稳定,从来带来不良。针对目前半导体领域对切深的要求越来越严格的情况下,各个厂家产品本身的平面度均有一定的差异,对划切设备中的切深一致性提出更高的要求。如硅切割中焦点偏差1UM,切深差异接近4UM,因此一种非接触式激光实时测量装置就具有非常重要的意义。

有鉴于上述的缺陷,本设计人,积极加以研究创新,以期创设一种非接触式高度补偿装置,使其更具有产业上的利用价值。

实用新型内容

为解决上述技术问题,本实用新型的目的是提供一种非接触式高度补偿装置。

本实用新型的非接触式高度补偿装置,包括有衔接定位支架,其中:所述衔接定位支架上安装有Z轴引导组件,所述Z轴引导组件上设置有多轴调节装置,所述多轴调节装置上安装有加工平台,所述加工平台上安装有传感器,所述传感器上设置有数据处理装置,所述衔接定位支架上安装有Z轴驱动装置,所述Z轴驱动装置的工作端与多轴调节装置相连,多轴调节装置为XY轴双向驱动装置,包括有X轴导轨,所述X轴导轨上安装有X轴滑块,所述X轴滑块上连接有X轴驱动装置,所述X轴滑块上安装有Y轴导轨,所述加工平台的底部与Y轴导轨相连,所述加工平台上连接有Y轴驱动装置。

进一步地,上述的非接触式高度补偿装置,其中,所述Z轴引导组件为两条镜像分布的Z轴导轨,所述Z轴导轨上设置有定位孔,通过定位螺钉穿过定位孔后与衔接定位支架相连。

更进一步地,上述的非接触式高度补偿装置,其中,所述Z轴驱动装置、X轴驱动装置、Y轴驱动装置均为微动电机。

更进一步地,上述的非接触式高度补偿装置,其中,所述传感器为激光位移传感器。

更进一步地,上述的非接触式高度补偿装置,其中,所述加工平台为大理石横板,所述大理石横板上分布有若干衔接孔。

更进一步地,上述的非接触式高度补偿装置,其中,所述数据处理装置包括有装置本体,所述装置本体内设置有MCU或是单片机,所述MCU或是单片机上连接有外连通讯组件。

更进一步地,上述的非接触式高度补偿装置,其中,所述外连通讯组件为I/O接口,或是为4G无线传输模块。

再进一步地,上述的非接触式高度补偿装置,其中,所述数据处理装置上连接有状态指示组件,所述状态指示组件为三色灯。

借由上述方案,本实用新型至少具有以下优点:

1、能够实现三轴的高精度调节,无需人工进行检测干预。

2、不影响加工效率的情况下,实时测量补偿芯片平面度,达到切深一致的效果。

3、整体构造简单,可以配合目前常规的半导体芯片切割设备来使用。

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