[实用新型]提高下料速度的溅射镀膜设备

说明书

本实用新型公开了一种提高下料速度的溅射镀膜设备，属于溅射镀膜领域，其包括半圆柱状的主壳体和转动连接于主壳体一侧的半圆柱状的辅壳体，辅壳体能够扣合与主壳体上形成圆柱形的密封壳体，在主壳体内固定连接有中心立柱，在中心立柱上转动连接有底盘，在底盘上转动连接有多根连接杆，每根连接杆均开设有多个容纳槽，在每个容纳槽内均固定连接有电磁铁；每根连接杆上均套设有多个具有铁磁性的套环，在每个套换上均固定连接有至少一根挂件杆，每个挂件杆均转动连接有档杆，挂件杆固定连接有扭簧，扭簧另一端固定连接于档杆上，扭簧自然状态下档杆朝向主壳体顶端，本实用新型具有方便工作人员下料，提高下料效率的效果。

技术领域

本实用新型涉及溅射镀膜的技术领域，尤其是涉及一种提高下料速度的溅射镀膜设备。

背景技术

目前溅射镀膜技术是用离子轰击靶材表面，把靶材的原子被击出的现象称为溅射。溅射产生的原子沉积在基体表面成膜称为溅射镀膜。通常是利用气体放电产生气体电离，其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶体，击出阴极靶体原子或分子，飞向被镀基体表面沉积成薄膜。在为镂空金属网镀膜时，由于镂空金属网表面结构相对板材比较复杂，所以采用溅射镀膜技术能够保证镀膜均匀且镀膜速度块。

现有技术可参考授权公告号为CN201437550U的中国实用新型专利，其公开了一种磁控溅射镀膜设备，包括抽真空机组、与该抽真空机组连接的镀膜箱，所述磁控溅射镀膜设备还包括铰接于镀膜箱左侧的左门盖、铰接于镀膜箱右侧的右门盖，所述左门盖与所述右门盖均设有工件装夹装置。该磁控溅射镀膜设备的一个门盖关闭进行抽真空以及磁控溅射镀膜的过程的同时，可以在另一个门盖上对已经完成镀膜的工件进行拆卸并装夹待镀膜的工件，使得整机工作效率大大提高，既具有平面溅射靶的镀膜功能又具有旋转圆柱溅射靶的镀膜功能；其中工件装夹装置具有复合旋转功能，使得镀膜过程更加均匀，得到更好的镀膜效果。

上述中的现有技术方案存在以下缺陷：采用溅射镀膜设备对镂空金属网进行镀膜时，一次虽然可以对大量镂空金属网进行镀膜，但是在下料时都需要工作人员逐个取下，下料速度较慢。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种提高下料速度的溅射镀膜设备，方便工作人员下料，底盘和连接杆在转动过程中工作人员可以进行下料，在底盘旋转一圈以后，工作人员基本可以将所有镂空金属网取下，提高下料效率。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：

一种提高下料速度的溅射镀膜设备，包括半圆柱状的主壳体和转动连接于主壳体一侧的半圆柱状的辅壳体，辅壳体能够扣合与主壳体上形成圆柱形的密封壳体，在主壳体上固定连接有抽真空设备，在主壳体内固定连接有中心立柱，在中心立柱上转动连接有底盘，在底盘上转动连接有多根连接杆，每根连接杆均平行于中心立柱设置，每根连接杆均开设有多个容纳槽，在每个容纳槽内均固定连接有电磁铁；

每根连接杆上均套设有多个具有铁磁性的套环，在每个套换上均固定连接有至少一根挂件杆，每个挂件杆均垂直于连接杆，在每个挂件杆远离连接杆一端均转动连接有档杆，在挂件杆靠近档杆一端固定连接有扭簧，扭簧另一端固定连接于档杆上，扭簧自然状态下档杆朝向主壳体顶端。

通过采用上述方案，在对镂空金属网进行镀膜时，工作人员将镂空金属网套设于挂件杆上，档杆防止镂空金属网从挂件杆上滑下；在镀膜完成后，工作人员进行下料时，断开所有电磁铁的电源，套环由连接杆上滑到连接杆底部，所有的镂空金属网均落到连接杆底部，工作人员可以一次将堆在一起的所有镂空金属网从挂件杆上捋下，镂空金属网在移动过程中将档杆推至与挂件杆平行状态下后，镂空金属网即可轻松从挂件上取下，底盘和连接杆在转动过程中工作人员可以进行下料，在转动速度合适的前提下，在底盘旋转一圈以后，工作人员即可将所有镂空金属网取下，下料速度快；在再次使用前，只需接通电磁铁的电源，然后将套环滑至对应电磁铁位置处，使电磁铁吸附套环，即可再次使用。

本实用新型进一步设置为：档杆向远离挂件杆方向向上倾斜设置。