[实用新型]一种自适应步进扫描模块及其三维原子力显微镜有效
申请号: | 201822142235.0 | 申请日: | 2018-12-19 |
公开(公告)号: | CN209387684U | 公开(公告)日: | 2019-09-13 |
发明(设计)人: | 王艳艳;贺思汉;边琰 | 申请(专利权)人: | 天津职业技术师范大学 |
主分类号: | G01Q60/24 | 分类号: | G01Q60/24;G01Q10/00 |
代理公司: | 天津创智天诚知识产权代理事务所(普通合伙) 12214 | 代理人: | 李薇 |
地址: | 300222 天*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 原子力显微镜 数据采集卡 步进扫描 智能反馈 位移台 自适应 六轴 探针驱动器 控制模块 通讯连接 控制器 三维 本实用新型 控制器通讯 侧壁 测量 驱动 | ||
本实用新型公开了一种自适应步进扫描模块及其三维原子力显微镜,自适应步进扫描模块,其特征在于,包括智能反馈控制器、六轴位移台、数据采集卡和控制模块,其中,所述原子力显微镜的探针驱动器受所述六轴位移台驱动以发生倾斜,所述探针驱动器与所述智能反馈控制器通讯连接,所述智能反馈控制器通过所述数据采集卡与所述控制模块通讯连接,所述数据采集卡与所述六轴位移台通讯连接。该模块可实现样品两侧侧壁的精确测量。
技术领域
本实用新型涉及原子力显微镜技术领域,特别是涉及一种面向三维原子力显微镜的自适应步进扫描模块。
背景技术
原子力显微镜(AFM)可用于测试绝缘体、导体、半导体等微纳结构的表面形貌,测试分辨率较高(纵向可达0.01nm),且测试过程中对被测样品无损坏,获得了广泛应用。目前半导体工业生产领域,集成电路加工过程中的刻线加工尺寸越来越小(30nm以内),原子力显微镜以其高分辨率的优势备受青睐。
原子力显微镜的基本工作原理是:利用集成探针的微悬臂梁接触被测样品表面,两者距离很近时,探针尖端原子与样品表面原子之间产生作用力,该力引起微悬臂梁发生变形,变形量经光杠杆放大并由光电探测器转换为电信号,经计算机采集读取并显示。利用压电陶瓷驱动器驱动探针在样品上进行X、Y和Z三个方向的扫描,Z向设定作用力值,利用反馈控制器控制该作用力恒定得到样品表面形貌的二维图像。
传统AFM有三种扫描模式:接触、轻敲和非接触。接触模式下,针尖在扫描过程中一直接触样品,两者原子之间的排斥力其主要作用,但该模式下容易损坏样品。非接触模式下,针尖与样品之间主要表现为吸引力,测试不稳定,分辨率较低。轻敲模式下,针尖处于谐振状态,周期性接触样品表面,分辨率较高,但扫描速度较低。
半导体工业领域,微纳结构刻线侧壁尺寸(如侧壁粗糙度、侧壁倾角)直接影响器件的电气性能。然而,AFM在以上三种模式下测量半导体结构刻线尺寸时,只能测得一侧侧壁形貌,且准确度较低。这严重限制了AFM在半导体工业生产线上的进一步应用。因此,一种面向3D-AFM可实现侧壁形貌准确测试的扫描技术是十分必要的。
实用新型内容
本实用新型的目的是针对现有技术中存在的接触、轻敲和非接触三种扫描模式都只能测得一侧侧壁形貌的问题,而提供一种集成在传统的AFM系统中的面向三维原子力显微镜的自适应步进扫描模块,在传统原子力显微镜的基础上,添加该模块,即可实现样品两侧侧壁形貌的准确测试。
本实用新型的另一方面是提供所述自适应步进扫描模块的控制方法,通过自适应扫描方法实现侧壁形貌的精确测量,提高测量的准确度。
本实用新型还提供了所述控制方法在半导体形貌测量中的应用,可精确的对侧壁进行测量。
为实现本实用新型的目的所采用的技术方案是:
面向三维原子力显微镜的自适应步进扫描模块,其特征在于,包括智能反馈控制器、六轴位移台、数据采集卡和控制模块,其中,所述原子力显微镜的探针驱动器受所述六轴位移台驱动以发生倾斜,所述探针驱动器与所述智能反馈控制器通讯连接,所述智能反馈控制器通过所述数据采集卡与所述控制模块通讯连接,所述数据采集卡与所述六轴位移台通讯连接。
在上述技术方案中,所述探针驱动器为高刚性压电陶瓷促动器P-841.1,所述六轴位移台为六轴六足位移台H840。
在上述技术方案中,所述智能反馈控制器为DSP芯片。
在上述技术方案中,所述DSP芯片通过外接模数转换芯片AD7725和数模转换芯片AD5542与所述探针驱动器相连接。
在上述技术方案中,所述DSP芯片通过内置的多通道缓冲接口McBSP0的CLKR引脚、FSR引脚、DR0引脚分别与所述模数转换芯片AD7725的SCO引脚、FSO引脚、引脚SDO 相连;
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