[实用新型]旋转吸嘴装置有效
申请号: | 201822142233.1 | 申请日: | 2018-12-19 |
公开(公告)号: | CN209016040U | 公开(公告)日: | 2019-06-21 |
发明(设计)人: | 向军;冯霞霞 | 申请(专利权)人: | 江苏新智达新能源设备有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 南京中高专利代理有限公司 32333 | 代理人: | 祝进 |
地址: | 214000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 转杆 吸嘴 支架 导轨 第二滑块 第一滑块 滑动设置 竖直设置 旋转吸嘴 转动 本实用新型 转动自由度 电机驱动 固定设置 驱动转杆 吸嘴装置 支架设置 转动调节 可转动 固晶 竖直 电机 | ||
1.一种旋转吸嘴装置,其特征在于:包括支座(1)和转杆(2),所述支座(1)固定设置,所述转杆(2)沿竖直方向穿设在所述支座(1)上,所述转杆(2)的上方设置有驱动所述转杆(2)转动的电机(3),所述转杆(2)的下部左侧竖直设置有第一导轨(4),所述转杆(2)的下部右侧竖直设置有第二导轨(5);
在所述第一导轨(4)上滑动设置有第一滑块(6),所述第一滑块(6)上设置有第一支架(7),所述第一支架(7)的底部设置有第一吸嘴(8);所述旋转吸嘴装置还包括第一弹簧(9)和第一顶推装置(10);所述第一弹簧(9)的上端设置在所述支座(1)上,下端设置在所述第一支架(7)上;所述第一顶推装置(10)设置在所述支座(1)上,位于所述第一支架(7)的上方;所述第一顶推装置(10)可向下方顶推所述第一支架(7);
在所述第二导轨(5)上滑动设置有第二滑块(11),所述第二滑块(11)上设置有第二支架(12),所述第二支架(12)的底部设置有第二吸嘴(13);所述旋转吸嘴装置还包括第二弹簧(14)和第二顶推装置(15);所述第二弹簧(14)的上端设置在所述支座(1)上,下端设置在所述第二支架(12)上;所述第二顶推装置(15)设置在所述支座(1)上,位于所述第二支架(12)的上方;所述第二顶推装置(15)可向下方顶推所述第二支架(12)。
2.如权利要求1所述的旋转吸嘴装置,其特征在于:所述第一吸嘴(8)上设置有第一凹槽(16)和第一插入部(17),所述第一凹槽(16)沿竖直方向贯穿设置在所述第一吸嘴(8)上;
所述第二吸嘴(13)上设置有第二凹槽(18)和第二插入部(19),所述第二凹槽(18)沿竖直方向贯穿设置在所述第二吸嘴(13)上;
所述第一插入部(17)插入所述第二凹槽(18)中,所述第二插入部(19)插入所述第一凹槽(16)中;在所述第一吸嘴(8)的底壁,位于所述第一凹槽(16)的两侧设置有第一吸头(20);在所述第二吸嘴(13)的底壁,位于所述第二凹槽(18)的两侧设置有第二吸头(21)。
3.如权利要求2所述的旋转吸嘴装置,其特征在于:所述第一吸头(20)的排列方式为二行,分别设置在所述第一凹槽(16)的两侧,所述第二吸头(21)的排列方式为二行,分别设置在所述第二凹槽(18)的两侧,二行所述第一吸头(20)的间距和二行所述第二吸头(21)的间距相同。
4.如权利要求1所述的旋转吸嘴装置,其特征在于:所述第一顶推装置(10)为第一气缸,所述第一气缸的缸体设置在所述支座(1)上,位于所述第一支架(7)的上方,所述第一气缸的活塞杆收回时可回缩至所述第一支架(7)的上极限位置上方,伸出时可向下顶推所述第一支架(7);
所述第二顶推装置(15)为第二气缸,所述第二气缸的缸体设置在所述支座(1)上,位于所述第二支架(12)的上方,所述第二气缸的活塞杆收回时可回缩至所述第二支架(12)的上极限位置上方,伸出时可向下顶推所述第二支架(12)。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造