[实用新型]溅射阳极罩和溅射装置

说明书

本实用新型公开一种溅射阳极罩和溅射装置，其中，溅射阳极罩包括罩体以及冷却装置，冷却装置包括冷却管，冷却管贴附于罩体上。本实用新型溅射阳极罩通过设置冷却装置，使得冷却管贴附在罩体上，则在溅射过程中，冷却管能够带走罩体的大部分或者几乎全部的热量，则能够有效的防止溅射阳极罩成为热源，避免溅射阳极罩的热辐射造成基材的温升，从而提高基体镀膜的均匀性及稳定性。

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射镀膜设计领域，特别涉及一种溅射阳极罩溅射装置。

背景技术

磁控溅射镀膜是指在真空状态充入惰性气体，并在基材和金属靶材之间加上高压直流电，由于辉光放电产生的电子激发惰性气体，产生等离子体，等离子体将金属靶材的原子轰出，并沉积在基材上。随着各类柔性产品及高端显示产品的广泛推出，对于镀膜过程中基片表面的温度控制要求越来越高，柔性基片不耐高温，另外一些产品虽然基片本身可以耐高温，但是由于制程当中涉及到很多道镀膜，前一道工序的材料不耐高温，也就导致后续的镀膜也必须在低温下完成，因此要求镀膜过程中必须采用低温镀膜。

通常在靶材和基体之间设置一个阳极罩，主要作用是吸收二次电子和散乱的溅射靶原子。然而目前同类连续镀膜生产线或单体镀膜机中的阳极罩，在连续镀膜过程中会导致阳极罩的温度上升，使得阳极罩成为热源，进而导致被镀基体表面的温升，这种现象会对一些自身对温度敏感的基材或者膜层材料产生破坏，导致基材受损或者膜层性能下降，使得需要在低温环境下进行镀膜的产品达不到要求的性能。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提出一种溅射阳极罩，旨在实现改善镀膜基体温升的目的。

为实现上述目的，本实用新型提出的溅射阳极罩，包括罩体以及冷却装置，冷却装置包括冷却管，所述冷却管贴附于所述罩体上。

可选地，所述罩体包括层叠设置的内罩和外罩，所述冷却装置夹设于所述内罩及所述外罩之间。

可选地，所述冷却管呈弯折设置。

可选地，所述冷却管包括多个水循环模块，多个所述水循环模块分布于所述罩体的溅射孔的周边。

可选地，所述外罩包括设有溅射孔的顶板及设于所述顶板相对两侧的侧板，所述侧板与所述顶板的内侧面均设有所述冷却管。

可选地，每一所述水循环模块包括侧冷却管、顶冷却管和连接所述侧冷却管和顶冷却管的连接管，所述侧冷却管贴附于所述侧板的内壁面，所述顶冷却管贴附于所述顶板的内壁面。

可选地，所述溅射阳极罩还包括管道压板，所述管道压板与所述外罩的内壁面固定连接，以将所述冷却管压紧固定在所述外罩的内壁面上。

可选地，所述溅射阳极罩还包括法兰，所述冷却管的进水端及出水端穿设所述法兰的法兰孔，并与所述法兰焊接连接。

可选地，所述溅射阳极罩还包括挡板，所述挡板可拆卸的设于所述内罩的内表面，以部分遮挡罩体的溅射孔。

本实用新型还提出一种溅射装置，包括罩体以及冷却装置，冷却装置包括冷却管，所述冷却管贴附于所述罩体上。

本实用新型溅射阳极罩通过设置冷却装置，使得冷却管贴附在罩体上，则在溅射过程中，冷却管能够带走罩体的大部分或者几乎全部的热量，则能够有效的防止溅射阳极罩成为热源，避免溅射阳极罩的热辐射造成基材的温升，从而提高基体镀膜的均匀性及稳定性。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本实用新型溅射阳极罩一实施例的结构示意图；